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J-GLOBAL ID:200903080493992618
微小物体の高さ計測方法及びその装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
有我 軍一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993143073
Publication number (International publication number):1995142486
Application date: Jun. 15, 1993
Publication date: Jun. 02, 1995
Summary:
【要約】【目的】 光位置センサの飽和を招くことなく、S/N比を改善でき、もって高さ計測精度の一層の向上を図ること。【構成】 チップ及び該チップ上の微小物体に走査光を斜め照射し、その反射光を光学系を透して光位置センサの受光面に導き、該光位置センサから取り出される受光面の受光位置に応じて相補的に大きさが変化する一対の出力信号に基づいて前記微小物体のチップ面からの高さを計測する装置において、少なくとも前記チップ表面を反射点とする反射光の光路上に、光の強度を弱めるためのフィルタを介在させたことを特徴とするものである。
Claim (excerpt):
チップ及び該チップ上の微小物体に走査光を斜め照射し、その反射光を光学系を透して光位置センサの受光面に導き、該光位置センサから取り出される受光面の受光位置に応じて相補的に大きさが変化する一対の出力信号に基づいて前記微小物体のチップ面からの高さを計測する装置において、少なくとも前記チップ表面を反射点とする反射光の光路上に、光の強度を弱めるためのフィルタを介在させたことを特徴とする微小物体の高さ計測装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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特開平2-176406
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特開平2-187604
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特開平4-113259
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特開平3-148049
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バンプ外観検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-000617
Applicant:富士通株式会社
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異物検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-154572
Applicant:株式会社日立製作所
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異物検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-278919
Applicant:日立電子エンジニアリング株式会社, 株式会社日立製作所
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バンプ電極検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-238273
Applicant:富士通株式会社
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