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J-GLOBAL ID：200903080604712431

近接場光ヘッド、近接場光ヘッドの作製方法ならびに光情報記録再生装置

Inventor： 内藤 勝之 ,  稗田 泰之
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 大胡 典夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000159193
Publication number (International publication number)：2001291258
Application date： Mar. 31, 2000
Publication date： Oct. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】 20〜50nmの微小な光スポットを形成でき、かつ光透過率の優れた近接場光ヘッド、近接場光ヘッドの作製方法ならびにこれを用いた記録再生装置を提供する。【解決手段】 平坦面22に微小開口23を持つ近接場光ヘッドにおいて、微小開口部23に貴金属微粒子構造24が形成され、かつ該貴金属微粒子24の先端がヘッド平坦面22より外部に出ていないことを特徴とする近接場光ヘッド。

Claim (excerpt)：

平坦面に微小開口を持つ近接場光ヘッドであって、前記微小開口部に貴金属微粒子構造が形成され、かつ該貴金属微粒子の先端がヘッド平坦面より外部に出ていないことを特徴とする近接場光ヘッド。

IPC (8)：

G11B 7/12 ,  G01N 13/10 ,  G01N 13/14 ,  G11B 5/02 ,  G11B 7/22 ,  G11B 11/105 566 ,  G11B 11/105 ,  G12B 21/06

FI (8)：

G11B 7/12 ,  G01N 13/10 G ,  G01N 13/14 B ,  G11B 5/02 S ,  G11B 7/22 ,  G11B 11/105 566 C ,  G11B 11/105 566 Z ,  G12B 1/00 601 C

F-Term (8)：

5D075AA03 ,  5D091CC04 ,  5D091CC24 ,  5D091DD03 ,  5D091HH20 ,  5D119AA22 ,  5D119JA34 ,  5D119NA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 情報記録及び/又は再生方法、並びに、情報記録及び/又は再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-052181   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 情報ピックアップ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-096782   Applicant：キヤノン株式会社
• 記録媒体、情報処理装置および情報記録再生方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-106674   Applicant：キヤノン株式会社
• 光ヘッド、光磁気ヘッド、ディスク装置、および光ヘッドの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-376777   Applicant：富士ゼロックス株式会社
• 光プローブ素子、光プローブ素子を用いた記録再生装置、および光プローブ素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-121710   Applicant：シャープ株式会社
• 光学ヘッドおよび光学記録再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-016848   Applicant：株式会社ニコン
• 光磁気記録装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-066581   Applicant：株式会社リコー