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J-GLOBAL ID:200903080620778779
リグニン変性ノボラック型フェノール系樹脂、その製造方法及びフェノール系樹脂成形材料
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007236616
Publication number (International publication number):2008156601
Application date: Sep. 12, 2007
Publication date: Jul. 10, 2008
Summary:
【課題】精密な射出成形が可能で、従来のフェノール系樹脂と同等の優れた特性を有し、かつ環境問題、安定供給問題に対応可能なフェノール系樹脂、かかるフェノール系樹脂の製造方法及びかかるリグニン変性ノボラック型フェノール系樹脂を配合してなるフェノール系樹脂成形材料の提供。【解決手段】リグニン変性ノボラック型フェノール系樹脂;リグニンと、フェノール又はフェノール誘導体と、アルデヒド類と、を有機酸の存在下で反応させることを特徴とするリグニン変性ノボラック型フェノール系樹脂の製造方法;かかるリグニン変性ノボラック型フェノール系樹脂を配合してなるフェノール系樹脂成形材料。【選択図】なし
Claim (excerpt):
リグニン変性ノボラック型フェノール系樹脂。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (11):
4J033CA02
, 4J033CA03
, 4J033CA04
, 4J033CA05
, 4J033CA11
, 4J033CA12
, 4J033CA13
, 4J033CA14
, 4J033CA16
, 4J033CC08
, 4J033CD06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (9)
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特公昭37-010598
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特公昭36-008344
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特開昭50-151988
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フェノール樹脂成形材料およびその成形部品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-264467
Applicant:東芝ケミカル株式会社
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フォトレジスト用フェノール樹脂の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-162115
Applicant:住友デュレズ株式会社
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特開昭61-064708
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水溶性樹脂組成物、アルキルエーテル化アミノ樹脂及びその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-208188
Applicant:日立化成工業株式会社
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特公昭38-024249
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特許第2895087号
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