反射型リソグラフィマスク構造及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：園田吉隆 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001514631
Publication number (International publication number)：2003506880
Application date： Jul. 28, 2000
Publication date： Feb. 18, 2003
Summary：

【要約】本発明は少なくとも一層を含む反射体(11)が固定された支持体(12)を具備し、反射体(11)が、先に製造されて除去される製造媒体(10)とは逆に支持体(12)に固定されている反射リソグラフィマスク構造に関する。

Claim (excerpt)：

少なくとも一層を含む反射体(11,22,36)が固定された支持体(12,24,37)を具備し、反射体が、先に製造された製造媒体(10,20,30)とは逆に支持体に固定されていることを特徴とするリソグラフィ反射型マスク構造。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

FI (2)：

G03F 1/16 A , H01L 21/30 531 M

F-Term (8)：

2H095BA10 , 2H095BC11 , 2H095BC27 , 5F046GD01 , 5F046GD10 , 5F046GD15 , 5F046GD16 , 5F046GD19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭63-237523
反射マスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-294331 Applicant：株式会社ニコン
反射型マスクの作製方法と製造装置およびこれを用いた反射型マスク、該反射型マスクを用いた露光装置と半導体デバイス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-031711 Applicant：キヤノン株式会社

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