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J-GLOBAL ID:200903080801366081
電気素子,メモリ装置,および半導体集積回路
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (12):
前田 弘
, 小山 廣毅
, 竹内 宏
, 嶋田 高久
, 竹内 祐二
, 今江 克実
, 藤田 篤史
, 二宮 克也
, 原田 智雄
, 井関 勝守
, 関 啓
, 杉浦 靖也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005308627
Publication number (International publication number):2006324625
Application date: Oct. 24, 2005
Publication date: Nov. 30, 2006
Summary:
【課題】製造プロセスを簡単にする。【解決手段】基板4上に下部電極3が形成され、下部電極3上に状態変化材料2が形成され、状態変化材料2上に上部電極1が形成される。電源5は、上部電極1および下部電極3間に所定の電圧を印加する。状態変化材料2は、順方向には電流が流れやすいが逆方向には電流が流れにくい特性(ダイオード特性)と、所定のパルス電圧が印加されることによって抵抗値が増加/減少する特性(可変抵抗特性)とを示す。【選択図】図1
Claim (excerpt):
第1の電極と、
第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に接続される状態変化材料とを備え、
前記状態変化材料は、
前記第1の電極および前記第2の電極のうちいずれか一方から他方へ向かう方向を順方向とし他方を逆方向とするダイオード特性を示し、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に印加される所定のパルス電圧に応じて、当該状態変化材料の順方向における抵抗値が増加/減少する可変抵抗特性を示す
ことを特徴とする電気素子。
IPC (6):
H01L 27/105
, H01L 27/10
, G11C 11/15
, H01L 49/00
, H01L 45/00
, H01L 43/08
FI (7):
H01L27/10 448
, H01L27/10 461
, G11C11/15 112
, H01L49/00 Z
, H01L45/00 Z
, H01L43/08 M
, G11C11/15 140
F-Term (7):
5F083FZ10
, 5F083JA37
, 5F083JA38
, 5F083JA60
, 5F083KA01
, 5F083KA05
, 5F083ZA13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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米国特許第6,204,139号公報
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米国特許第6,673,691号公報
-
米国特許第6,531,371号公報
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垂直スタック型フィールド・プログラマブル不揮発性メモリおよびその製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-583042
Applicant:マトリックスセミコンダクターインコーポレーテッド
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Cited by examiner (5)
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半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-038225
Applicant:三洋電機株式会社
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不揮発性メモリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-164451
Applicant:松下電器産業株式会社
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垂直スタック型フィールド・プログラマブル不揮発性メモリおよびその製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-583042
Applicant:マトリックスセミコンダクターインコーポレーテッド
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不揮発性メモリセル及び不揮発性半導体記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-353733
Applicant:シャープ株式会社
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特許第6204139号
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