Pat
J-GLOBAL ID：200903080826352760
ブラックマトリクス用レジスト組成物およびそれを用いてなるブラックマトリクス
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997060533
Publication number (International publication number)：1998253820
Application date： Mar. 14, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：
【要約】【課題】 低膜厚でも遮光性能が極めて高く、しかも高抵抗のブラックマトリクス用レジスト組成物を得る。その上に形成した配向膜表面の各画素内における凹凸を小さくし、画素内の液晶の配向状態の不均一性を小さくすることができ、アクティブ素子アレイ側にブラックマトリクスを形成した際、あるいは電着法を用いて該ブラックマトリクスを形成後に赤・青・緑のカラーフィルターを形成する際、隣接する画素間が電気的に導通することが避けることができるブラックマトリクスを得る。【解決手段】 感光性樹脂、顔料、分散剤および溶剤を含有してなるブラックマトリクス用レジスト組成物であって、該分散剤が塩基性官能基を有する分散剤であり、該顔料が実質的にカーボンブラックのみからなり、乾燥膜厚1μmにおける膜抵抗が109Ω/□以上であることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
感光性樹脂、顔料、分散剤および溶剤を含有してなるブラックマトリクス用レジスト組成物であって、該分散剤が塩基性官能基を有する分散剤であり、該顔料が実質的にカーボンブラックのみからなり、乾燥膜厚1μmにおける膜抵抗が109Ω/□以上であることを特徴とするブラックマトリクス用レジスト組成物。
IPC (5)：
G02B 5/20 101
, C09D 5/00
, G02B 5/00
, G03F 7/004 505
, H01J 9/227
G02B 5/20 101
, C09D 5/00 C
, G02B 5/00 B
, G03F 7/004 505
, H01J 9/227 D
Cited by examiner (10)
Show all
Return to Previous Page
