Pat
J-GLOBAL ID:200903080861245046
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001399235
Publication number (International publication number):2003195507
Application date: Dec. 28, 2001
Publication date: Jul. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れるとともに、微細パターン領域での高い現像性を有する化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)5-(2-メチル-2-アダマンチル)オキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプトー2-エン、5-(1-メチル-1-シクロペンチル)オキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプトー2-エン等に由来するノルボルネン系繰り返し単位と、3-ヒドロキシ-1-アダマンチル(メタ)アクリレート、1-メチル-1-シクロヘキシル(メタ)アクリレート等に由来する(メタ)アクリル酸系繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有する。
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(1-1)で表される繰返し単位および下記一般式(1-2)で表される繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1-1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示し、各R2 は相互に独立に炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体、または炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示し、且つR2 の少なくとも1つが該脂環式炭化水素基もしくはその誘導体であるか、あるいは何れか2つのR2 が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に炭素数4〜20の2価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成して、残りのR2 が炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体である。一般式(1-2)において、各R3 は相互に独立に炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体、または炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示し、且つR3 の少なくとも1つが該脂環式炭化水素基もしくはその誘導体であるか、あるいは何れか2つのR3 が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に炭素数4〜20の2価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成して、残りのR3 が炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体であり、nは0〜2の整数である。〕
IPC (5):
G03F 7/039 601
, C08F232/04
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/039 601
, C08F232/04
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
F-Term (42):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CC05
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J100AK32Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100AR11P
, 4J100BA03R
, 4J100BA11S
, 4J100BA15P
, 4J100BA40R
, 4J100BC03P
, 4J100BC03T
, 4J100BC04R
, 4J100BC08R
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC12R
, 4J100BC53S
, 4J100CA03
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA37
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-013848
Applicant:住友化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-277966
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-313470
Applicant:住友化学工業株式会社
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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-402244
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-359321
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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