Pat
J-GLOBAL ID：200903020881038818

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩

Inventor：
上谷 保則

About 上谷 保則

, 
三浦 一朗

About 三浦 一朗

, 
大橋 賢治

About 大橋 賢治


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999313470
Publication number (International publication number)：2001131143
Application date： Nov. 04, 1999
Publication date： May. 15, 2001
Summary：
【要約】【課題】 エキシマレーザーリソグラフィ、特に220nm以下の波長の光を用いたリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などが良好であるものを提供し、さらに、このような化学増幅型ポジ型レジスト組成物の酸発生剤として有用な化合物を提供する【解決手段】 下式(I)(式中、Rはアルキルを表し、Q1 及びQ2 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、mは1〜8の整数を表す)で示されるジフェニルアルキルスルホニウム塩を含む酸発生剤及び、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる重合体を主体とする樹脂を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物が提供され、さらに、上記式(I)中のmが4〜8である化合物も提供される。
Claim (excerpt)：
下式(I)(式中、Rはアルキルを表し、Q1 及びQ2 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、mは1〜8の整数を表す)で示されるジフェニルアルキルスルホニウム塩を含む酸発生剤及び、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる重合体を主体とする樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
C07C381/12 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601
FI (3)：
C07C381/12 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601
F-Term (16)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006TN30
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM