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J-GLOBAL ID:200903080999762513

バリアー性積層体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995283456
Publication number (International publication number):1997123334
Application date: Oct. 31, 1995
Publication date: May. 13, 1997
Summary:
【要約】【課題】樹脂フィルムと金属蒸着薄膜との密着性が良く、かつ、ガスバリアー性に優れたバリアー性積層体とその製造方法を提供すること。【解決手段】樹脂フィルムの片面に低温プラズマCVD法によりシリコン化合物の薄膜を形成させ、その薄膜上に物理蒸着法により金属または金属化合物の薄膜を積層させてなる。
Claim (excerpt):
樹脂フィルムの片面に低温プラズマCVD法によりシリコン化合物の薄膜を形成させ、その薄膜上に物理蒸着法により金属または金属化合物の薄膜を積層させてなることを特徴とするバリアー性積層体。
IPC (5):
B32B 9/00 ,  B32B 15/08 ,  C08J 7/06 ,  C23C 16/42 ,  C23C 28/00
FI (5):
B32B 9/00 A ,  B32B 15/08 F ,  C08J 7/06 Z ,  C23C 16/42 ,  C23C 28/00 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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