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J-GLOBAL ID:200903081353867798
配線基板およびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
作田 康夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001163641
Publication number (International publication number):2002359446
Application date: May. 31, 2001
Publication date: Dec. 13, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】貫通孔を有する絶縁基板と、その絶縁基板の表面に形成された薄膜配線層とを有する多層配線基板において、信頼性が高く、高密度配線可能な多層配線基板を低コストに提供する。【解決手段】ガラス基板1にサンドブラストにより貫通孔100を形成し、該ガラス基板の上に配線パターン120および層間絶縁層110を形成し、該貫通孔100の内面にめっき配線101または導電性物質を充填して、多層配線基板を形成する。
Claim (excerpt):
ガラス基板と、該ガラス基板の上に形成された配線および絶縁層を含む多層配線層とを有する配線基板であって、該ガラス基板は該ガラス基板の両面で電気的接続を取るための孔を有し、該孔はサンドブラストにより形成されたものであることを特徴とする配線基板。
IPC (6):
H05K 1/11
, H01L 23/12
, H01L 23/15
, H05K 3/00
, H05K 3/40
, H05K 3/46
FI (9):
H05K 1/11 H
, H05K 1/11 N
, H05K 3/00 K
, H05K 3/00 X
, H05K 3/40 K
, H05K 3/46 N
, H05K 3/46 Z
, H01L 23/12 N
, H01L 23/14 C
F-Term (28):
5E317AA25
, 5E317BB01
, 5E317BB12
, 5E317CC31
, 5E317CD01
, 5E317GG14
, 5E346AA02
, 5E346AA12
, 5E346AA15
, 5E346AA43
, 5E346CC10
, 5E346CC16
, 5E346CC32
, 5E346DD03
, 5E346DD17
, 5E346DD24
, 5E346DD32
, 5E346DD33
, 5E346DD44
, 5E346EE33
, 5E346FF07
, 5E346FF17
, 5E346GG15
, 5E346GG17
, 5E346GG22
, 5E346GG25
, 5E346GG26
, 5E346HH25
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
混成回路基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-227115
Applicant:株式会社日立製作所
-
微細穴・溝加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-208526
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
PGAパッケージ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-265012
Applicant:株式会社住友金属エレクトロデバイス
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