水性感光性組成物及びパターンの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小田島平吉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993125499
Publication number (International publication number)：1994313134
Application date： Apr. 27, 1993
Publication date： Nov. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型電着フォトレジスト等に有用な水性感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法を提供する。【構成】 A)カルボキシル基を重合体1kgあたり0.5〜10当量含有する重合体を100重量部、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物を5〜150重量部、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物をA)とB)との合計量100重量部に対して0.1〜40重量部を必須成分として含む組成物を塩基性化合物で中和し、水中に溶解又は分散した事を特徴とする水性感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法。

Claim (excerpt)：

A)カルボキシル基を重合体1kgあたり0.5〜10当量含有する重合体を100重量部、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物を5〜150重量部、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物をA)とB)との合計量100重量部に対して0.1〜40重量部を必須成分として含む組成物を塩基性化合物で中和し、水中に溶解又は分散したことを特徴とする水性感光性組成物。

IPC (7)：

C09D 5/44 PRL , C09D 5/44 PRG , C09D 5/44 PRN , C09D201/08 PDG , G03F 7/038 , G03F 7/039 501 , H05K 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-259431 Applicant：富士写真フイルム株式会社
感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-259433 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開平4-330445

Show all

Return to Previous Page