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J-GLOBAL ID：200903081430554803

粒状ポリシリコンの製造方法

Inventor：
飯山 昭二

About 飯山 昭二

, 
阪井 純也

About 阪井 純也


Applicant, Patent owner：
株式会社トクヤマ

About 株式会社トクヤマ


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996314860
Publication number (International publication number)：1998158006
Application date： Nov. 26, 1996
Publication date： Jun. 16, 1998
Summary：
【要約】【課題】流動層反応器の内壁に析出したポリシリコンの除去による流動層型反応器内壁の破損なく、インサート管の交換の必要がない粒状ポリシリコンの製造を可能とすること。【解決手段】表面に酸化層を形成したポリシリコンのインサート管により内壁を構成した流動層型反応器を使用し、内壁にハロゲンガス又はハロゲン化水素を含むガスを接触させることにより、オーバーエッチングなしに内壁に析出したポリシリコンを除去でき、インサート管の交換の必要のない粒状ポリシリコンの製造ができる。
Claim (excerpt)：
流動層型反応器を使用してシラン化合物の熱分解反応又は還元反応によりシリコンを析出せしめて粒状ポリシリコンを製造する方法において、該流動層型反応器の内壁を表面に酸化層を形成したポリシリコンのインサート管により構成し、該インサート管の内面にポリシリコンが析出し、堆積した時点で該堆積したポリシリコンにハロゲンガス又はハロゲン化水素を含むガスを接触させることを特徴とする粒状ポリシリコンの製造方法。
IPC (4)：
C01B 33/02 ,  B01J 8/24 ,  B01J 19/00 ,  C01B 33/029
FI (4)：
C01B 33/02 E ,  B01J 8/24 ,  B01J 19/00 H ,  C01B 33/029
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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