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J-GLOBAL ID：200903081462599892

ポジ型感光性樹脂組成物

Inventor： 土井 宏介 ,  細田 浩 ,  高橋 浩一 ,  徳竹 信生 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993199759
Publication number (International publication number)：1994194829
Application date： Aug. 11, 1993
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性ノボラック型樹脂に、感光性成分として、一般式【化1】又は【化2】(式中のR1及びR2のうち少なくとも一方は-OD3で、残りは水素原子又は水酸基、D1,D2及びD3は、その中の少なくとも1個がナフトキノン-1,2-ジアジドスルホニル基で、残りは水素原子、k,m及びnは0又は1〜3の整数である)で表わされる化合物を配合して成るポジ型感光性樹脂組成物。【効果】 高感度で画像コントラスト、パターンの断面形状に優れるとともに、特に焦点深度幅特性及び耐熱性の優れたレジストパターンを形成しうるので、ICやLSIなどの半導体デバイスの超微細加工用レジストとして好適に用いられる。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ノボラック型樹脂に、感光性成分として、一般式【化1】又は【化2】(式中のR1及びR2は、そのうち少なくとも一方が-OD3で、残りは水素原子又は水酸基、D1,D2及びD3は、その中の少なくとも1個がナフトキノン-1,2-ジアジドスルホニル基で、残りは水素原子であり、k,m及びnは0又は1〜3の整数である)で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種を配合して成るポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-177238   Applicant：三菱化成株式会社
• ポジ型フオトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-085856   Applicant：富士写真フイルム株式会社