物体上の欠陥を再検査する装置及び方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中村稔 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000219834
Publication number (International publication number)：2001133417
Application date： Jun. 15, 2000
Publication date： May. 18, 2001
Summary：

【要約】【課題】物体上の欠陥を再検査するための装置及び方法を提供する。【解決手段】装置は、物体を載せて受入れるステージ414、及び光学顕微鏡416及び走査型電子顕微鏡(SEM)420の両方を含む。光学顕微鏡は、物体表面上の予め地図化されている欠陥を再検出するために使用され、物体表面の選択された部分に向けて光ビームを導く照明源436を含む。光学顕微鏡は、明るいフィールド照明及び暗いフィールド照明の何れか、または両方を生成するように構成されている。一旦欠陥が再検出されると、並進システム422は、その欠陥がSEMによって再検査される位置に達するようにステージを所定の変位だけ運動させる。装置は、SEMによる再検査のために自動的に合焦させ、欠陥の変化するパースペクティブが得られるようにステージを回転させるように構成することができる。

Claim (excerpt)：

予め生成されている欠陥地図に基づいて物体表面上の欠陥を再検査するための装置であって、上記物体を載せて受入れるステージと、光ビームを発生する照明源を含み、上記欠陥地図内に含まれている情報に基づいて上記光ビームを上記物体表面の選択された部分に向けて導く光学顕微鏡と、上記光学顕微鏡に結合され、上記光ビームによって照明された欠陥を検出する光センサと、粒子のビームを規定された軸に沿って焦点に収斂させる粒子ビームイメージングシステムと、上記再検出された欠陥を、上記焦点の直近に位置決めする並進システムと、を備え、上記再検出された欠陥を、引続き上記粒子ビームイメージングシステムを使用して再検査できるようにしたことを特徴とする装置。

IPC (6)：

G01N 21/956 , G01N 23/225 , H01J 37/147 , H01J 37/20 , H01J 37/28 , H01L 21/66

FI (6)：

G01N 21/956 A , G01N 23/225 , H01J 37/147 B , H01J 37/20 D , H01J 37/28 B , H01L 21/66 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

微小異物の位置決め方法、分析方法、これに用いる分析装置およびこれを用いた半導体素子もしくは液晶表示素子の製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-121314 Applicant：三菱電機株式会社
特開平3-174738
特開平4-064245

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