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J-GLOBAL ID：200903081652135167

フォトニック結晶導波路及びその製造方法

Inventor：
井本 克之

About 井本 克之


Applicant, Patent owner：
日立電線株式会社

About 日立電線株式会社


Agent (1)： 絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001316834
Publication number (International publication number)：2003121667
Application date： Oct. 15, 2001
Publication date： Apr. 23, 2003
Summary：
【要約】【課題】 低損失なフォトニック結晶導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 酸化物層3の空孔4の形成されていない領域からなる酸化物パターン5上にパルス幅が1000フェムト秒以下の超短パルスレーザビームを照射して酸化物パターン5の屈折率を増加させることで、光信号を酸化物パターン5内に効率よく閉じ込めて伝搬させることができる。この結果、空孔4の形成された領域が不均一な構造になっても、不均一さによる散乱損失の誘発を抑えることができ、低損失なフォトニック結晶型光回路を実現することができる。超短パルスレーザビーム照射により酸化物パターン5の屈折率を1%程度までに増加させることができ、この高屈折率化により、さらに低損失化が可能となる。
Claim (excerpt)：
光信号が伝搬する透明な酸化物からなる酸化物層の面方向に所定の間隔で所望形状の空孔がマトリクス状に形成され、上記酸化物層の空孔の形成されていない領域からなる酸化物パターンが上記酸化物層の面方向に直線状、曲線状あるいはこれらを組合せた形状に形成され、かつ上記酸化物パターン上にパルス幅が1000フェムト秒以下の超短パルスレーザビームが照射されて上記酸化物パターンの屈折率が増加したことを特徴とするフォトニック結晶導波路。
IPC (2)：
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (3)：
G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
F-Term (11)：
2H047KA01 ,  2H047KA03 ,  2H047KA04 ,  2H047PA05 ,  2H047PA11 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047QA01 ,  2H047QA04 ,  2H047TA36 ,  2H047TA43
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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