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J-GLOBAL ID:200903074835412201
フォトニック結晶導波路およびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
秋田 収喜
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998021139
Publication number (International publication number):1999218627
Application date: Feb. 02, 1998
Publication date: Aug. 10, 1999
Summary:
【要約】【課題】 フォトニック結晶導波路の特性の安定化、製造コストを低減。【解決手段】 基板の表面にスラブ光導波路を有するとともに前記スラブ光導波路の一部にスラブ光導波路のコア層の屈折率と異なる屈折率を有する屈折率変化領域が格子配列状に配置されたフォトニック結晶構造が設けられたフォトニック結晶導波路であって、前記屈折率変化領域は前記スラブ光導波路のコア層を構成する材質と同じ材質のもので構成されている。光が伝播する光導波領域の両側にそれぞれ屈折率変化領域が格子配列状に配置されている。前記屈折率変化領域のコア層の屈折率は屈折率変化領域から外れた領域のコア層の屈折率よりも大きく、その比屈折率差は10~4〜10~2程度であることを特徴とする。単位格子は正三角形配列になっている。
Claim (excerpt):
基板の表面に誘電体スラブ光導波路を有するとともに前記スラブ光導波路の一部にスラブ光導波路のコア層の屈折率と異なる屈折率を有する屈折率変化領域が格子配列状に配置されたフォトニック結晶構造が設けられたフォトニック結晶導波路であって、前記屈折率変化領域は前記スラブ光導波路のコア層を構成する材質と同じ材質でかつ光誘起効果による屈折率変化処理が施された材質で構成されていることを特徴とするフォトニック結晶導波路。
FI (2):
G02B 6/12 C
, G02B 6/12 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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光導波路及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-179155
Applicant:日立電線株式会社
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ポリマ導波路及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-113732
Applicant:日立電線株式会社
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特開平3-171009
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特開平2-140701
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特開昭60-033510
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低損失光及び光電子集積回路
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平6-516248
Applicant:マサチユセツツ・インスチチユート・オブ・テクノロジー
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