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J-GLOBAL ID：200903081660525829

排ガスの脱臭処理方法および装置

Inventor：
内藤 喜美子

About 内藤 喜美子

, 
伊勢 潤二

About 伊勢 潤二


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社

, 
旭化成エンジニアリング株式会社

About 旭化成エンジニアリング株式会社


Agent (4)： 宮崎 昭夫 ,  金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003182572
Publication number (International publication number)：2005013885
Application date： Jun. 26, 2003
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：
【課題】効果的な排ガスの脱臭処理方法および装置を提供すること。【解決手段】水溶性物質及び臭気成分を含む排ガスの脱臭処理方法において、充填材層の上部から下部方向に通水しつつ、該充填材層の下部から上部方向に排ガスを通過させ該排ガスと該水とを接触させることで、該排ガス中の水溶性物質の少なくとも一部を該水中へ除去する工程と、微生物が担持された担体が充填された生物脱臭処理層の上部から下部方向に通水しつつ、該生物脱臭処理層の上部から下部方向に前記充填材層を通過した排ガスを通過させることで、該排ガスを脱臭処理する工程と、を有することを特徴とする排ガスの脱臭処理方法とする。また、上記排ガスの脱臭処理方法による脱臭処理が可能な構成の排ガスの脱臭処理装置とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
水溶性物質及び臭気成分を含む排ガスの脱臭処理方法において、 (a)充填材層の上部から下部方向に通水しつつ、該充填材層の下部から上部方向に排ガスを通過させ該排ガスと該水とを接触させることで、該排ガス中の水溶性物質の少なくとも一部を該水中へ除去する工程と、 (b)微生物が担持された担体が充填された生物脱臭処理層の上部から下部方向に通水しつつ、該生物脱臭処理層の上部から下部方向に前記充填材層を通過した排ガスを通過させることで、該排ガスを脱臭処理する工程と を有することを特徴とする排ガスの脱臭処理方法。
IPC (7)：
B01D53/38 ,  B01D53/46 ,  B01D53/54 ,  B01D53/72 ,  B01D53/77 ,  B01D53/81 ,  C02F3/30
FI (7)：
B01D53/34 116C ,  C02F3/30 B ,  B01D53/34 116A ,  B01D53/34 120D ,  B01D53/34 120E ,  B01D53/34 121Z ,  B01D53/34 128
F-Term (13)：
4D002AA01 ,  4D002AA14 ,  4D002AA40 ,  4D002AB02 ,  4D002BA02 ,  4D002BA16 ,  4D002BA17 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002DA35 ,  4D002EA03 ,  4D002EA07 ,  4D040BB42
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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