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J-GLOBAL ID:200903048352869927
多重露光描画方法及び多重露光描画装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松浦 孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001198375
Publication number (International publication number):2003015309
Application date: Jun. 29, 2001
Publication date: Jan. 17, 2003
Summary:
【要約】【課題】 マトリックス状に配列された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて描画面上に所定のパターンを多重露光により描画する。【解決手段】 マトリックス状に配列された多数の変調素子を持つ露光ユニット(181、...188;201、...207)を用いて所定パターンを描画面上に多重露光により描画する。露光ユニットは描画面に対して該露光ユニットの変調素子の一方の配列方向に沿って所定の一定速度で相対的に連続的に移動する。配列方向に配列された変調素子のうちの等間隔に配置された一連の変調素子が描画面に対して相対的に所定距離だけ移動する度毎にその変調素子は同一のビットデータで順次動作させられてそこに入射する光を変調する。変調素子による変調時間については該変調素子によって描画面上に得られるべき一画素露光領域のサイズ以下の距離を露光ユニットが描画面に対して移動する間の時間とされる。
Claim (excerpt):
マトリックス状に配列された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて所定パターンを描画面上に多重露光により描画する多重露光描画方法であって、前記露光ユニットを前記描画面に対して該露光ユニットの変調素子の一方の配列方向に沿って所定の一定速度で相対的に連続的に移動させる移動段階と、前記配列方向に配列された前記変調素子のうちの等間隔に配置された一連の変調素子が前記描画面に対して相対的に所定距離だけ移動する度毎にその変調素子を同一のビットデータで順次動作させてそこに入射する光を変調させる変調段階とより成り、前記変調段階での変調時間については該変調素子によって前記描画面上に得られるべき一画素露光領域のサイズ以下の距離を前記露光ユニットが前記描画面に対して相対的に移動する間の時間とされることを特徴とする多重露光描画方法。
IPC (2):
G03F 7/20 501
, H01L 21/027
FI (2):
G03F 7/20 501
, H01L 21/30 529
F-Term (13):
2H097AA12
, 2H097AB01
, 2H097BB01
, 2H097CA06
, 2H097GB02
, 2H097JA02
, 2H097LA09
, 5F046BA07
, 5F046CB22
, 5F046CB27
, 5F046CC01
, 5F046CC13
, 5F046DA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-148449
Applicant:リコーマイクロエレクトロニクス株式会社
-
露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-346753
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
カラープリンタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-137297
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
画像形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-026857
Applicant:コニカ株式会社
-
画像形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-167406
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-532621
Applicant:ジョンソンケニスシー
-
物体上の複数の領域を独立に照光するシステムおよび方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-098779
Applicant:テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
-
露光装置および液晶ディスプレイ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-013009
Applicant:シャープ株式会社
-
製版方法及び製版装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-344629
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
EUVを使用するパターン・ジェネレータ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-534917
Applicant:マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット
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