パターン基板,パターン基板の製造方法、微細金型および磁気記録用パターン媒体

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井上学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005317857
Publication number (International publication number)：2007125699
Application date： Nov. 01, 2005
Publication date： May. 24, 2007
Summary：

【課題】高分子ブロック共重合体の自己組織化現象により、基板表面全面に欠陥やグレイン構造なく、表面の高さが均一なパターンを基板表面全面にパターニングした基板およびその製造方法を提供する。また、ナノインプリント用の微細金型、さらに磁気記録用パターン媒体を提供する。【解決手段】基板表面に凹形状部を作成し、凹形状部内部を含む基板表面全面に高分子ブロック共重合体の薄膜を製膜した後に、高分子ブロック共重合体の薄膜中にミクロ相分離構造を形成させる。しかる方法をとると、凹形状部内部のみならず、基板表面全面に略規則的なミクロ相分離構造を欠陥やグレイン構造なく形成でき、そのパターンを利用した基板や微細金型あるいは磁気記録用パターン媒体を提供できる。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

ミクロ相分離構造を有する高分子ブロック共重合体の薄膜をベース基板の表面に有するパターン基板において、前記ベース基板表面に凸凹形状を有し、該凹形状部分の深さが前記ミクロ相分離構造を構成するミクロドメインの最近接ミクロドメイン間距離aに対して、0.5a以上1.5a以下であり、前記高分子ブロック共重合体の薄膜が前記ベース基板の凹形状部分及び凸形状部分の表面に形成されていることを特徴とするパターン基板。

IPC (3)：

B29C 33/38 , G11B 5/855 , B29C 33/42

FI (3)：

B29C33/38 , G11B5/855 , B29C33/42

F-Term (16)：

4F202AG05 , 4F202AH36 , 4F202AR12 , 4F202AR13 , 4F202CA30 , 4F202CB01 , 4F202CD02 , 4F202CD03 , 4F202CD04 , 5D112AA02 , 5D112AA19 , 5D112AA20 , 5D112BA09 , 5D112CC05 , 5D112GB01 , 5D112GB07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

記録媒体、記録媒体の製造方法、および記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-082436 Applicant：株式会社東芝
加工方法及び成形体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-358296 Applicant：株式会社東芝

Cited by examiner (5)

加工方法及び成形体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-358296 Applicant：株式会社東芝
記録媒体、記録媒体の製造方法、および記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-082436 Applicant：株式会社東芝
記録媒体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-138678 Applicant：株式会社東芝

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