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J-GLOBAL ID：200903081968597928

ウエハの表面清浄化方法

Inventor： 柳川 周作 ,  木村 豊和
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999047458
Publication number (International publication number)：2000252225
Application date： Feb. 25, 1999
Publication date： Sep. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ウエハに付着した汚染不純物を簡易な手法で処理して、ウエハの表面を清浄化する方法を提供する。【解決手段】 本方法は、ウエハ表面に付着した汚染不純物を処理してウエハのの表面を清浄化する方法であって、ウエハに酸化性雰囲気内で熱処理を施す工程を備え、汚染不純物を酸化物、又は水酸化物に転化し、脱離させる。酸化性雰囲気は、O2ガスを含むドライ酸化性雰囲気か、又は水蒸気を含むパイロ酸化性雰囲気とする。熱処理温度が300°C以上である。

Claim (excerpt)：

ウエハ表面に付着した汚染不純物を処理してウエハの表面を清浄化する方法であって、酸化性雰囲気内でウエハに熱処理を施し、汚染不純物を酸化物、又は水酸化物に転化して、脱離させる工程を備えることを特徴とするウエハの表面清浄化方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-055813   Applicant：富士通株式会社
• 基板表面の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-336307   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 金属シリコンからのボロン除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-079318   Applicant：川崎製鉄株式会社