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J-GLOBAL ID：200903082020453224

エレクトロニクス材料用洗浄剤

Inventor：
鈴木 一充

About 鈴木 一充


Applicant, Patent owner：
三洋化成工業株式会社

About 三洋化成工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007132782
Publication number (International publication number)：2007335856
Application date： May. 18, 2007
Publication date： Dec. 27, 2007
Summary：
【課題】 実質的にアルカリ金属原子を含有せず、洗浄時において微細化したパーティクルの再付着防止性に優れ、効率的な高度洗浄を可能にするエレクトロニクス材料用洗浄剤を提供することにある。【解決手段】 有機酸(A)の第4級アンモニウム塩(B)を含有してなるエレクトロニクス材料用洗浄剤であって、アルカリ金属原子およびアルカリ土類金属原子の合計含有量が洗浄剤の重量に基づいて0.01重量%以下あり、第4級アンモニウム塩(B)が、pKaが11〜40の第3級アミン(C)と炭酸ジメチルとの反応で得られた第4級アンモニウム炭酸塩と、有機酸(A)とのアニオン交換反応によって得られた第4級アンモニウム塩であることが好ましい。また、第4級アンモニウム塩(B)の重量平均分子量は1,000〜1,000,000であることが好ましい。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
有機酸(A)の第4級アンモニウム塩(B)を含有してなるエレクトロニクス材料用洗浄剤。
IPC (6)：
H01L 21/304 ,  C11D 1/68 ,  C11D 3/26 ,  B08B 3/08 ,  G02F 1/133 ,  G02C 13/00
FI (11)：
H01L21/304 647A ,  C11D1/68 ,  C11D3/26 ,  H01L21/304 642E ,  H01L21/304 643 ,  H01L21/304 644 ,  H01L21/304 642D ,  H01L21/304 647B ,  B08B3/08 Z ,  G02F1/1333 500 ,  G02C13/00
F-Term (42)：
2H006DA07 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB38 ,  3B201BA02 ,  3B201BB01 ,  3B201BB21 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  4H003AB18 ,  4H003AC08 ,  4H003DA15 ,  4H003EB16 ,  4H003EB19 ,  4H003EB28 ,  4H003EB30 ,  4H003ED02 ,  5F157AA02 ,  5F157AA03 ,  5F157AA42 ,  5F157AA43 ,  5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB96 ,  5F157BA02 ,  5F157BB01 ,  5F157BB11 ,  5F157BB73 ,  5F157BC03 ,  5F157BC04 ,  5F157BC55 ,  5F157BD02 ,  5F157BD03 ,  5F157BF12 ,  5F157BF38 ,  5F157BF39 ,  5F157BF72 ,  5F157DB03 ,  5F157DB45 ,  5F157DB51
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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