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J-GLOBAL ID：200903082133396200

高周波誘導熱プラズマ装置

Inventor： 水野 光一 ,  大内 日出夫 ,  吉田 豊信 ,  朝倉 友美 ,  植松 信行 ,  中村 正和 ,  天野 高伸 ,  小牧 久 ,  平川 祥治
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  東京大学長 ,  東京電力株式会社 ,  新日本製鐵株式会社 ,  株式会社日鉄技術情報センター ,  日本電子株式会社
Agent (2)： 工業技術院資源環境技術総合研究所長 (外2名) ,  井島 藤治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993227518
Publication number (International publication number)：1995183096
Application date： Sep. 13, 1993
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 腐食性ガスによるガスリング先端部の腐食を防止することができる高周波誘導熱プラズマ装置を実現する。【構成】 30はガスリング3の先端部に設けられたキャップであり、キャップ30は耐腐食性で熱良伝導体材料、例えば金,ジルコニウムなどで形成されている。またキャップ30は薄肉構造となっており、その内側の一部Sにはネジが切られており、ガスリングのベース部材31に対してネジ止めされている。キャップ30とベース部材31との間は冷却媒体の通路32となる。キャップ部分は高温のプラズマに晒され、また、管2内に発生した腐食性ガスにも晒されることになる。しかしながら、キャップ30は冷却媒体によって冷却され、さらに、腐食性ガスによって腐食される溶接部分もないため、長期間使用しても溶融されたり腐食により穴が開いたりすることはない。

Claim (excerpt)：

絶縁性物質で形成された管と、管の一端に設けられプラズマガスを管内に供給するためのガスリングと、管の外側に配置された高周波誘導コイルとを備え、管内でプラズマを発生させるようにした高周波誘導熱プラズマ装置において、ガスリングの先端部分に耐腐食性で熱良導体の物質で形成されたキャップを捩子止めし、該キャップ内に冷却媒体を供給するように構成したことを特徴とする高周波誘導熱プラズマ装置。

IPC (2)：

H05H 1/46 ,  B01D 53/32 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-089499
  
• 特開平3-090172
  
• 切断用プラズマトーチ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-072109   Applicant：株式会社小松製作所