Pat
J-GLOBAL ID:200903082294030060

酸素吸収剤及び耐膨潤性、耐剥離性及び表面平滑性に優れた脱酸素性容器

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 杉村 憲司 ,  杉村 興作 ,  来間 清志 ,  藤谷 史朗 ,  澤田 達也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008010978
Publication number (International publication number):2008292451
Application date: Jan. 21, 2008
Publication date: Dec. 04, 2008
Summary:
【課題】衝撃による破壊の危険性を低減させ、かつ静電相互作用の影響を低減する。【解決手段】マイクロエレクトロメカニカルデバイス1において、可動質量体2を、弾性の懸架素子を介して基板3の上方に懸架し、かつ弾性の懸架素子の周りに回転可能とし、カバー構造10は、可動質量体2の上方に配置し、かつ可動質量体2に対面する内面10aを有し、かつストッパ構造12を、カバー構造10の内面10aに配置し、基板3に交差する軸線zに沿う基板3から遠ざかる可動質量体2の運動を停止させるように、可動質量体2に向かって突出する。ストッパ構造12は、相反する相互作用の影響を減少するように、とくに弾性の懸架素子の周りの可動質量体2の合成的ねじりモーメントを減少させるように、可動質量体2に対して相対配置する。【選択図】図1b
Claim (excerpt):
弾性の懸架素子(5)を介して基板(3)の上方に懸架し、かつ前記弾性の懸架素子(5)の周りに回転可能な可動質量体(2)と、 前記可動質量体(2)の上方に配置し、かつ前記可動質量体に対面する内面(10a)を有するカバー構造(10)と、 前記カバー構造(10)の前記内面(10a)に配置し、前記可動質量体(2)に向かって突出し、かつ前記基板に交差する軸(z)に沿って前記基板(3)から遠ざかる前記可動質量体(10)の運動を停止させるように設計したストッパ構造(12,14)とを備えるマイクロエレクトロメカニカルデバイス(1)において、 前記ストッパ構造(12,14)は、相反する相互作用の影響を減少させるように、前記可動質量体(2)に対して配置したことを特徴とするマイクロエレクトロメカニカルデバイス。
IPC (2):
G01P 15/125 ,  H01L 29/84
FI (2):
G01P15/125 Z ,  H01L29/84 Z
F-Term (11):
4M112AA02 ,  4M112BA07 ,  4M112CA21 ,  4M112CA24 ,  4M112CA26 ,  4M112CA31 ,  4M112CA34 ,  4M112EA02 ,  4M112EA04 ,  4M112EA13 ,  4M112FA07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
Show all
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page