露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：立石篤司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001230727
Publication number (International publication number)：2003045931
Application date： Jul. 31, 2001
Publication date： Feb. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】インラインにて接続された基板処理装置との間で基板を搬送する際に、そのスループットを向上させる【解決手段】バッファユニット29が、C/D200から搬入される未露光のウエハ及びC/Dに戻される露光済みのウエハを多数枚同時に収容可能となっている。このため、C/D側(インライン・インタフェース部を含む)と露光装置本体21側との間で処理能力に差が生じても、同時に多数枚のウエハをバッファユニット29に一時保管することにより、待ち時間、すなわち時間のロスがないようにすることが可能である。従って、インラインにて接続された基板処理装置との間で基板を搬送する際に、そのスループットを向上させることができる。

Claim (excerpt)：

基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、露光対象の基板が載置される基板ステージを含む露光装置本体と;前記基板処理装置から搬入される基板及び前記基板処理装置に戻される基板を多数枚同時に収容可能なバッファユニットと;前記バッファユニットと前記基板ステージとの間で基板を搬送する基板搬送系と;を備える露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/68 , B65G 49/00 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (5)：

H01L 21/68 A , B65G 49/00 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 J , H01L 21/30 503 E

F-Term (59)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA08 , 5F031DA17 , 5F031EA14 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA14 , 5F031FA15 , 5F031FA19 , 5F031GA02 , 5F031GA08 , 5F031GA35 , 5F031GA42 , 5F031GA43 , 5F031GA46 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031GA50 , 5F031HA33 , 5F031HA57 , 5F031HA59 , 5F031JA01 , 5F031JA03 , 5F031JA05 , 5F031JA10 , 5F031JA22 , 5F031JA28 , 5F031JA29 , 5F031JA34 , 5F031JA35 , 5F031JA47 , 5F031KA08 , 5F031KA10 , 5F031KA11 , 5F031KA13 , 5F031KA14 , 5F031LA08 , 5F031MA13 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031NA04 , 5F031NA07 , 5F031NA09 , 5F031NA10 , 5F031NA11 , 5F031NA15 , 5F031NA17 , 5F031PA02 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CA04 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046DA27

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-011873 Applicant：株式会社ニコン
板状体の処理装置及び搬送装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-108769 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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