Pat
J-GLOBAL ID:200903082530066551
磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
柿沼 伸司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005166666
Publication number (International publication number):2006024346
Application date: Jun. 07, 2005
Publication date: Jan. 26, 2006
Summary:
【課題】 信頼性を向上し高密度の情報の記録再生が可能な小径の磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。【解決手段】 非磁性基板上に、少なくとも裏打ち層と垂直磁気記録膜と保護膜を有する磁気記録媒体において、非磁性基板を、直径48mm以下の円盤形のシリコンとし、保護膜をDLC(Diamond Like Carbon)で構成し、垂直磁気記録膜を、少なくともCoとPtと酸化物を含むグラニュラー構造とする。また酸化物を、SiO2,Cr2O3,TiO,TiO2,Ta2O5からなる群から選ばれた何れか一種を含む構成とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
非磁性基板上に、少なくとも裏打ち層と垂直磁気記録膜と保護膜を有する磁気記録媒体において、非磁性基板が、直径48mm以下の円盤形のシリコンであることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (6):
G11B 5/73
, G11B 5/65
, G11B 5/667
, G11B 5/72
, G11B 5/84
, G11B 5/851
FI (6):
G11B5/73
, G11B5/65
, G11B5/667
, G11B5/72
, G11B5/84 B
, G11B5/851
F-Term (21):
5D006AA02
, 5D006BB01
, 5D006BB06
, 5D006BB07
, 5D006CA03
, 5D006CB04
, 5D006CB07
, 5D006DA08
, 5D112AA02
, 5D112AA04
, 5D112AA05
, 5D112AA07
, 5D112BA02
, 5D112BB05
, 5D112BB10
, 5D112BC05
, 5D112BD03
, 5D112FA04
, 5D112FA09
, 5D112FB26
, 5D112GB03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
垂直磁気記録媒体及び垂直磁気記録媒体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-365280
Applicant:富士電機株式会社
-
垂直磁気記録媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-050981
Applicant:富士電機株式会社
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