光パルス発生器

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：小池晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998322302
Publication number (International publication number)：2000151519
Application date： Nov. 12, 1998
Publication date： May. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】光パルスの繰り返し周波数を可変とするとともに、大幅に変化させ、光パルスの形状を任意に変化させる。【解決手段】それぞれが異なる周波数を有する光を出射する複数の光源6と、光を所定の周波数で変調することで前記所定の周波数間隔でサイドバンドを発生させて変調光を生成する変調手段2と、変調手段2からの変調光を用いて、光パルスとして出射する複数の光源6からの光の周波数及び位相を制御する制御手段9とを備える。

Claim (excerpt)：

それぞれが異なる周波数を有する光を出射する複数の光源と、光を所定の周波数で変調することで前記所定の周波数間隔でサイドバンドを発生させて変調光を生成する変調手段と、上記変調手段からの変調光を用いて、光パルスとして出射する上記複数の光源からの光の周波数及び位相を制御する制御手段とを備えることを特徴とする光パルス発生器。

IPC (6)：

H04B 10/152 , H04B 10/142 , H04B 10/04 , H04B 10/06 , G02F 2/02 , H01S 5/0683

FI (3)：

H04B 9/00 L , G02F 2/02 , H01S 3/18 637

F-Term (22)：

2K002AB01 , 2K002AB02 , 2K002AB09 , 2K002AB12 , 2K002AB13 , 2K002AB27 , 2K002BA04 , 2K002DA08 , 2K002EA30 , 2K002EB15 , 2K002GA10 , 2K002HA10 , 5F073EA29 , 5F073GA11 , 5K002AA01 , 5K002BA02 , 5K002BA04 , 5K002BA05 , 5K002BA13 , 5K002CA05 , 5K002CA14 , 5K002DA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

周波数可変レーザ光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-062294 Applicant：アンリツ株式会社
多チャネル光周波数安定化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-072610 Applicant：日本電信電話株式会社
特公平5-058276

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