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J-GLOBAL ID:200903082814496661

X線分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 河野 登夫 ,  河野 英仁
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002255798
Publication number (International publication number):2004093405
Application date: Aug. 30, 2002
Publication date: Mar. 25, 2004
Summary:
【課題】X線照射手段のX線出力部及び2次X線検出手段の2次X線入力部にかかる圧力差又は圧力差の変化などの負荷を減少させて耐久性を向上させるX線分析装置を提供する。【解決手段】先端部にX線及び蛍光X線を透過させるX線透過膜26で塞がれた凹部41が設けられ、該凹部41のX線透過膜26よりも内側に、X線を照射するX線照射手段12、14および特性X線を検出する特性X線検出手段16が配置されたプローブ40と、前記凹部41のX線透過膜26よりも内側の気体を排出する排出手段32,34と、前記凹部41のX線透過膜26よりも内側への気体の吸入を防止する吸入防止手段42とを備え、前記凹部41を真空状態に保つ。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
X線照射手段から被照射体に1次X線を照射した際に生じる2次X線を2次X線検出手段で検出するX線分析装置において、 X線を透過させるX線透過体で塞がれた凹部が形成され、該凹部にX線照射手段のX線出力部および2次X線検出手段の2次X線入力部が配置されたプローブと、 前記凹部内を真空状態に保つ真空保持手段と を備えることを特徴とするX線分析装置。
IPC (3):
G01N23/223 ,  G01T7/00 ,  G21K1/06
FI (3):
G01N23/223 ,  G01T7/00 A ,  G21K1/06 G
F-Term (16):
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001PA07 ,  2G088EE30 ,  2G088FF02 ,  2G088FF03 ,  2G088FF15 ,  2G088GG21 ,  2G088JJ01 ,  2G088JJ08 ,  2G088JJ09 ,  2G088JJ10 ,  2G088JJ23 ,  2G088JJ37 ,  2G088LL22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • X線分析装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-142737   Applicant:株式会社堀場製作所
  • 蛍光X線分析装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-310057   Applicant:理学電機工業株式会社

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