蛍光X線分析装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉本修司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998310057
Publication number (International publication number)：2000137010
Application date： Oct. 30, 1998
Publication date： May. 16, 2000
Summary：

【要約】【課題】分析室の設定した真空度の収束時間が短くなるように圧力制御して、真空度の安定性の確保と軽元素分析精度の向上を図ることができる蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】圧力センサ11による圧力検出値と真空設定値とが合致するように、真空ポンプ3の回転数を変化させて排気能力を増減させる動作を行うインバータ装置10を制御して、その排気能力を調整する。したがって、真空ポンプ3による排気の応答性が向上し、設定した真空度の収束時間を短くするので、真空度の安定性を確保できる。

Claim (excerpt)：

真空ポンプにより真空引きした分析室内の試料を蛍光X線分析する蛍光X線分析装置であって、前記真空ポンプへの供給電力の周波数を変化させることにより、真空ポンプの回転数を変化させて排気能力を増減させる動作を行うインバータ装置と、前記分析室内の圧力を検出する圧力センサと、前記圧力センサによる圧力検出値と、真空設定値とが合致するように、前記インバータ装置を制御して、前記真空ポンプの排気能力を調整する圧力制御手段とを備えた蛍光X線分析装置。

IPC (2)：

G01N 23/223 , F04B 37/16

FI (2)：

G01N 23/223 , F04B 37/16 A

F-Term (24)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001CA01 , 2G001GA16 , 2G001JA11 , 2G001JA14 , 2G001JA20 , 2G001KA01 , 2G001MA02 , 2G001MA04 , 2G001NA03 , 2G001NA16 , 2G001PA02 , 2G001PA07 , 2G001PA11 , 3H076AA16 , 3H076AA21 , 3H076AA39 , 3H076BB34 , 3H076CC07 , 3H076CC51 , 3H076CC94 , 3H076CC98 , 3H076CC99

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-358531
特開平1-235840
特開平3-044545

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