オゾン滅菌方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：綿貫隆夫 , 堀米和春
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006287341
Publication number (International publication number)：2008104488
Application date： Oct. 23, 2006
Publication date： May. 08, 2008
Summary：

【課題】凹状内腔を有する滅菌対象物の内腔底面まで充分に且つ安全に滅菌できるオゾン滅菌方法を提供する。【解決手段】チャンバ内に滅菌対象物を収容し、濃度80vol%以上の高純度オゾンガスを導入して滅菌する際に、チャンバ内を排気して第1減圧状態P1とする排気工程と、チャンバ内に水蒸気を導入して、チャンバ内を第1減圧状態よりも昇圧した第2減圧状態P2の下で対象物を加湿する加湿工程と、高純度オゾンガスをチャンバ内に導入し、チャンバ内を第2減圧状態よりも昇圧して、圧力をオゾンガスの爆発限界以下の第3減圧状態P3とすると共に、チャンバ内を実質的にオゾンガスのみから成るオゾンガス雰囲気とするオゾンガス工程と、チャンバ内のオゾンガス雰囲気を希釈する希釈ガスを導入し、チャンバ内を第3減圧状態よりも昇圧した第4減圧状態P4の下で所定時間保持して滅菌する滅菌工程とから成る一連の工程を複数回繰り返す。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

滅菌対象物が収容されたチャンバ内に、オゾン濃度が80vol%以上の高純度オゾンガスを導入して、前記滅菌対象物に滅菌を施す際に、前記滅菌対象物が収容されたチャンバ内を排気して第1減圧状態とする排気工程と、前記チャンバ内に水蒸気を導入し、前記チャンバ内を第1減圧状態よりも昇圧した第2減圧状態として、前記滅菌対象物を加湿する加湿工程と、前記高純度オゾンガスをチャンバ内に導入し、前記チャンバ内を第2減圧状態よりも昇圧して、前記チャンバの圧力をオゾンガスの爆発限界以下の第3減圧状態とすると共に、前記チャンバ内を実質的にオゾンガスのみから成るオゾンガス雰囲気とするオゾンガス工程と、前記チャンバ内のオゾンガス雰囲気を希釈する希釈ガスを導入し、前記チャンバ内を第3減圧状態よりも昇圧した第4減圧状態の下で所定時間保持して滅菌する滅菌工程とから成る一連の工程を複数回繰り返すことを特徴とするオゾン滅菌方法。

IPC (1)：

A61L 2/20

FI (1)：

A61L2/20 J

F-Term (8)：

4C058AA12 , 4C058AA15 , 4C058BB07 , 4C058CC02 , 4C058DD06 , 4C058DD20 , 4C058JJ14 , 4C058JJ26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

滅菌方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-017836 Applicant：株式会社明電舎, 株式会社千代田製作所

Cited by examiner (5)

オゾン減菌の方法及び装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2003-541897 Applicant：ティー・エス・オー・スリー・インコーポレイテッド
滅菌方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-017836 Applicant：株式会社明電舎, 株式会社千代田製作所
滅菌中の低蒸気圧の化学蒸気滅菌剤の浸透を高める方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平6-512440 Applicant：アメリカンステリライザーカンパニー

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