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J-GLOBAL ID：200903083038443044

照射野形成装置

Inventor：
古川 卓司

About 古川 卓司

, 
野田 耕司

About 野田 耕司


Applicant, Patent owner：
独立行政法人放射線医学総合研究所

About 独立行政法人放射線医学総合研究所


Agent (2)： 磯野 道造 ,  多田 悦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005175604
Publication number (International publication number)：2006346120
Application date： Jun. 15, 2005
Publication date： Dec. 28, 2006
Summary：
【課題】荷電粒子ビームの照射深度を調整しつつも、一定なビーム径で照射野を形成することができる照射野形成装置を提供する。【解決手段】加速器で生成した荷電粒子ビームを被検体6に照射する際に、照射野を形成する照射野形成装置1であって、荷電粒子ビームのビーム軸Z上に配設され、荷電粒子ビームの照射深度を調整するレンジシフタ11と、レンジシフタ11の下流に配設され、レンジシフタ11により拡大された荷電粒子ビームのビーム径を一定に調整する2つ以上の収束用電磁石12と、を備えたことを特徴とする照射野形成装置1である。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
加速器で生成した荷電粒子ビームを被検体に照射する際に、照射野を形成する照射野形成装置であって、 前記荷電粒子ビームのビーム軸上に配設され、前記荷電粒子ビームの照射深度を調整するレンジシフタと、 前記レンジシフタの下流に配設され、前記レンジシフタにより拡大された前記荷電粒子ビームのビーム径を一定に調整する2つ以上の収束用電磁石と、 を備えたことを特徴とする照射野形成装置。
IPC (3)：
A61N 5/10 ,  G21K 3/00 ,  G21K 1/093
FI (6)：
A61N5/10 J ,  A61N5/10 H ,  A61N5/10 N ,  G21K3/00 W ,  G21K3/00 Y ,  G21K1/093 F
F-Term (9)：
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG12 ,  4C082AG21 ,  4C082AG31 ,  4C082AG42 ,  4C082AG60 ,  4C082AN05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 治療装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-180015   Applicant：株式会社東芝
Cited by examiner (4)
  • ビーム治療装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-038213   Applicant：株式会社東芝
  • 治療装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-180015   Applicant：株式会社東芝
  • 特開昭53-008500
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