治療装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999180015
Publication number (International publication number)：2001000562
Application date： Jun. 25, 1999
Publication date： Jan. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】ビームサイズの変化を少なくし、正常組織への照射損傷の発生を防ぐ治療装置を提供すること。【解決手段】荷電粒子を患部に照射して治療を行なう治療装置において、前記荷電粒子を発生させる加速器から取り出した荷電粒子線の軌道を偏向させる偏向電磁石2と、前記荷電粒子線の軌道上に配置され、その軌道に対して垂直な平面における前記荷電粒子の範囲を規定するコリメータ4と、前記荷電粒子のエネルギーを減衰させて前記患部の照射深さを変化させるレンジシフタ3と、を具備し、前記加速器から前記患部に向かって、前記偏向電磁石2、前記コリメータ4、前記レンジシフタ3の順に配置した。

Claim (excerpt)：

荷電粒子を患部に照射して治療を行なう治療装置において、前記荷電粒子を発生させる加速器から取り出した荷電粒子線の軌道を偏向させる偏向電磁石と、前記荷電粒子線の軌道上に配置され、その軌道に対して垂直な平面における前記荷電粒子の範囲を規定するコリメータと、前記荷電粒子のエネルギーを減衰させて前記患部の照射深さを変化させるレンジシフタと、を具備し、前記加速器から前記患部に向かって、前記偏向電磁石、前記コリメータ、前記レンジシフタの順に配置したことを特徴とする治療装置。

IPC (3)：

A61N 5/10 , G21K 5/04 , H05H 9/00

FI (3)：

A61N 5/10 , G21K 5/04 A , H05H 9/00 A

F-Term (13)：

2G085AA13 , 2G085CA06 , 2G085CA13 , 2G085CA16 , 2G085DA10 , 2G085EA07 , 4C082AA01 , 4C082AC04 , 4C082AE01 , 4C082AG12 , 4C082AG21 , 4C082AG26 , 4C082AN05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

荷電粒子線照射装置及び治療装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-194570 Applicant：株式会社日立製作所
荷電粒子線照射装置及び照射方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-310433 Applicant：三菱電機株式会社
粒子線治療システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-045802 Applicant：株式会社日立製作所

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