基板処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉田茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995321924
Publication number (International publication number)：1997162109
Application date： Dec. 11, 1995
Publication date： Jun. 20, 1997
Summary：

【要約】【課題】空間効率を下げずに回転処理部への受渡し基板回転角度を調整する。【解決手段】各回転処理部SC,SDのスピンチャック30の停止角度についての回転オフセット値をキーボード装置36から入力しさらに所定のメモリ装置37に記憶し、実際のスピンチャック30の停止角度をエンコーダ34で検出し、この実際の停止角度を加味しつつ、サーボドライバ33によってスピンチャック30を回転オフセット値だけ回転させ、適正な角度で基板を受け取る。そうすると、専用の調整機構を設けなくても、在来のサーボドライバ33で基板角度を容易に調整できる。

Claim (excerpt)：

基板保持装置で基板を保持しつつ当該基板を水平回転して当該基板の主面に所定の処理を行う少なくとも1個の回転処理部を有する基板処理装置であって、前記基板を水平に保持する基板保持部材と、前記基板保持部材を水平回転する回転手段と、前記基板保持部材の回転停止角度位置調整に関する情報を入力する位置入力手段と、前記位置入力手段で入力された情報に基づいて前記基板保持部材の回転停止角度位置を調整するよう前記回転手段を駆動制御する駆動制御手段と、を備える基板処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/68

FI (5)：

H01L 21/30 564 C , B05C 11/08 , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/68 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

回転処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-172673 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
ゲーム装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-327344 Applicant：株式会社ナムコ
特開昭55-065445

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