パルス幅伸長光学系および該光学系を備えた露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山口孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997049777
Publication number (International publication number)：1997288251
Application date： Feb. 18, 1997
Publication date： Nov. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】パルス光の発光時間を疑似的に伸長することによって、発光時間内の平均エネルギを低減する。【解決手段】パルス光を複数の光路に沿って分割するための光分割手段と、複数の光路に沿った分割パルス光を同一の光路に沿って合成するための光合成手段とを備え、同一の光路に沿って合成された合成パルス光の強度が複数の光路に沿って分割される元のパルス光の強度よりも実質的に小さくなるように、複数の光路は互いに所定の光路長差を有する。

Claim (excerpt)：

パルス光の発光時間を疑似的に伸長するパルス幅伸長光学系において、前記パルス光を複数の光路に沿って分割するための光分割手段と、前記複数の光路に沿った分割パルス光を同一の光路に沿って合成するための光合成手段とを備え、前記同一の光路に沿って合成された合成パルス光の強度が前記複数の光路に沿って分割される元のパルス光の強度よりも実質的に小さくなるように、前記複数の光路は互いに所定の光路長差を有することを特徴とするパルス幅伸長光学系。

IPC (4)：

G02B 27/10 , G03F 7/20 505 , H01L 21/027 , H01S 3/10

FI (5)：

G02B 27/10 , G03F 7/20 505 , H01S 3/10 Z , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 515 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

レーザー装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-278703 Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
レーザパルス延長装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-019159 Applicant：オラミール・セミコンダクター・リミテツド
特開平1-319727

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