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J-GLOBAL ID:200903083344014599
洗浄処理装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
中本 菊彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994035403
Publication number (International publication number):1995221060
Application date: Feb. 08, 1994
Publication date: Aug. 18, 1995
Summary:
【要約】【目的】 被処理体保持部における被処理体との接触部におけるパーティクルの発生防止及び被処理体の浸漬処理の向上を図る。【構成】 ウエハWを保持してウエハWを処理槽内の処理液に浸漬するウエハチャック12又はウエハボート16のウエハ保持部を、耐食、耐熱及び耐強度性を有するポリエーテルエーテルケトン(PEEK)製の保持棒20,27,28にて形成する。これら保持棒20,27,28にウエハWを保持する保持溝21,29,32を形成する。これにより、ウエハチャック12又はウエハボート16のウエハ保持部とウエハWとの接触部におけるパーティクルの発生を防止することができると共に、ウエハWの浸漬処理の向上を図ることができる。
Claim (excerpt):
被処理体を浸漬処理する処理液を収容する処理槽と、上記被処理体を保持して上記処理槽へ搬送する搬送手段と、上記被処理体を保持して被処理体を上記処理槽内の処理液に浸漬する保持手段とを具備する洗浄処理装置において、上記搬送手段又は保持手段を、ポリエーテルエーテルケトン製部材にて形成したことを特徴とする洗浄処理装置。
IPC (4):
H01L 21/304 341
, B08B 3/04
, B08B 11/04
, H01L 21/68
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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