Pat
J-GLOBAL ID:200903083503965702

歯磨剤用の改良された清掃研磨剤の製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 社本 一夫 ,  小野 新次郎 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  野矢 宏彰
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2007548295
Publication number (International publication number):2008525451
Application date: Dec. 12, 2005
Publication date: Jul. 17, 2008
Summary:
研磨粒子の反応器後の分粒を空気分級技術によって施した、優れた清掃性能と低研磨性を有する沈降シリカ研磨剤組成物の製造法を提供する。特定の粒径範囲を標的にすることによって、より高い被膜(ペリクル)清掃レベルがシリカ生成物自身の象牙質研磨性まで増大することなく達成できることが解明された。その結果、そのような分級研磨シリカ生成物を含み、特に望ましい清掃利益を示す歯磨剤が、改良された歯研磨、ホワイトニングなどのために、歯の硬質表面に有害な影響を与えることなく提供できる。本発明には、この選択的プロセススキームの生成物及びそのような分級シリカ生成物を含有する歯磨剤も含まれる。
Claim (excerpt):
沈降シリカ研磨剤組成物の製造法であって、 a)複数の乾燥シリカ粒子を準備する工程; b)前記乾燥シリカ粒子を空気分級によって分粒及び分級する工程;及び c)前記分粒及び分級された乾燥シリカ粒子を、得られた粒子の少なくとも一群が、約5〜約15ミクロンのメジアン粒径、2未満の粒径スパン、及び0.3を超える粒径ベータ値を示すように分離する工程 を含む方法。
IPC (3):
A61K 8/25 ,  A61Q 11/00 ,  C09K 3/14
FI (3):
A61K8/25 ,  A61Q11/00 ,  C09K3/14 550D
F-Term (22):
4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083AB242 ,  4C083AB282 ,  4C083AB442 ,  4C083AB472 ,  4C083AC012 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC782 ,  4C083AC862 ,  4C083AD272 ,  4C083BB23 ,  4C083BB25 ,  4C083CC41 ,  4C083DD22 ,  4C083DD27 ,  4C083EE07 ,  4C083EE35 ,  4C083EE36 ,  4C083FF01 ,  4C083FF05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • CARPLEX SHIONOGI, 199804, 表紙、第1頁〜第17頁、奥付

Return to Previous Page