全反射測定装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩橋祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000373127
Publication number (International publication number)：2002174591
Application date： Dec. 07, 2000
Publication date： Jun. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は、一の装置で入射角を容易に及び正確に変えて全反射光を得ることができる全反射測定装置を提供することにある。【解決手段】入射光118を臨界角以上の入射角で被測定試料と全反射プリズムの当接面131に集光し、その全反射光120を得る全反射測定装置において、前記被測定試料112と全反射プリズム110の当接面131に対する入射光118の入射角を全反射測定可能な角度の範囲内で変更可能な入射角変更手段164を備え、前記入射角変更手段164により入射光118の入射角を変えて全反射光120を得ることを特徴とする全反射測定装置122。

Claim (excerpt)：

入射光を臨界角以上の入射角で被測定試料と全反射プリズムの当接面に集光し、その全反射光を得る全反射測定装置において、前記被測定試料と全反射プリズムの当接面に対する入射光の入射角を全反射測定可能な角度の範囲内で変更可能な入射角変更手段を備え、前記入射角変更手段により入射光の入射角を変えて全反射光を得ることを特徴とする全反射測定装置。

IPC (4)：

G01N 21/27 , G01B 11/06 , G01N 21/01 , G01N 21/35

FI (4)：

G01N 21/27 C , G01B 11/06 G , G01N 21/01 Z , G01N 21/35 Z

F-Term (31)：

2F065AA25 , 2F065CC02 , 2F065FF52 , 2F065GG04 , 2F065HH18 , 2F065JJ18 , 2F065LL02 , 2F065LL04 , 2F065LL13 , 2F065MM15 , 2F065UU01 , 2G059AA05 , 2G059BB04 , 2G059BB10 , 2G059DD12 , 2G059EE02 , 2G059EE12 , 2G059FF07 , 2G059GG01 , 2G059GG03 , 2G059HH01 , 2G059JJ01 , 2G059JJ11 , 2G059JJ12 , 2G059JJ13 , 2G059JJ14 , 2G059JJ15 , 2G059JJ17 , 2G059KK01 , 2G059KK03 , 2G059LL02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

赤外顕微・FT-IR装置及び記録媒体の分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-081196 Applicant：ソニー株式会社
非線形光学材料評価装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-023951 Applicant：株式会社日立製作所
画像生成ATR分光装置及びスペクトル吸収画像を得る方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-229721 Applicant：バイオ-ラッドラボラトリーズインコーポレイテッド

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