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J-GLOBAL ID:200903083697791300
ウェーハ製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
山田 行一
, 鈴木 康仁
, 二宮 克之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004150897
Publication number (International publication number):2005005699
Application date: May. 20, 2004
Publication date: Jan. 06, 2005
Summary:
【課題】合成物の不定的な破壊のリスクが軽減された状態で、不均質材料合成物を分割する容易かつ効率的な方法を提供する。【解決手段】不均質材料合成物9が、その所定の分割領域で分割されるウェーハ製造方法に関し、該合成物9は熱処理にかけられるものであり、合成物9が分割される前に止める合成物9のアニールと、所定の分割領域5で合成物を分割するための光子12の合成物9への照射とを含む。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
不均質材料合成物(9)が該合成物(9)の所定の分割領域(5)で分割されるウェーハ製造方法であり、前記合成物(9)が熱処理にかけられ、
前記熱処理が、
前記合成物(9)が分割される前に止める前記合成物(9)のアニール(140、141)と、
前記所定の分割領域(5)で前記合成物(9)を分割するための光子(12)の前記合成物(9)への照射(150、151、153、160、161、162、163、164)とを含むことを特徴とする方法。
IPC (4):
H01L21/02
, H01L21/265
, H01L21/762
, H01L27/12
FI (6):
H01L21/02 C
, H01L21/265 602B
, H01L21/265 602C
, H01L27/12 B
, H01L21/76 D
, H01L21/265 Q
F-Term (9):
5F032AA91
, 5F032CA05
, 5F032CA09
, 5F032CA10
, 5F032DA21
, 5F032DA41
, 5F032DA60
, 5F032DA71
, 5F032DA74
Patent cited by the Patent:
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