Pat
J-GLOBAL ID:200903083755566134
表面処理組成物及びそれを用いた基体の表面処理方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995191504
Publication number (International publication number):1997040997
Application date: Jul. 27, 1995
Publication date: Feb. 10, 1997
Summary:
【要約】【課題】 金属(特にアルミニウム)付着防止効果に優れた表面処理組成物を提供する。【解決手段】金属付着防止剤として、キノリノール及びその誘導体、エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、2-ヒドロキシ-1-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニルアゾ)-4-ナフタレンスルホン酸、4,4’-ビス(3,4-ジヒドロキシフェニルアゾ)-2,2’-スチルベンジスルホン酸二アンモニウム、ピロカテコールバイオレット、o,o’-ジヒドロキシアゾベンゼン、1’2-ジヒドロキシ-5-ニトロ-1,2’-アゾナフタレン-4-スルホン酸、N,N’-ビス(2-ヒドロキシベンジル)エチレンジアミン-N,N’-二酢酸から選ばれる少なくとも1種の錯化剤を含有する液状表面処理組成物
Claim (excerpt):
金属付着防止剤として、キノリノール及びその誘導体、エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、2-ヒドロキシ-1-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニルアゾ)-4-ナフタレンスルホン酸、4,4’-ビス(3,4-ジヒドロキシフェニルアゾ)-2,2’-スチルベンジスルホン酸二アンモニウム、ピロカテコールバイオレット、o,o’-ジヒドロキシアゾベンゼン、1’2-ジヒドロキシ-5-ニトロ-1,2’-アゾナフタレン-4-スルホン酸、N,N’-ビス(2-ヒドロキシベンジル)エチレンジアミン-N,N’-二酢酸から選ばれる少なくとも1種の錯化剤を含有する事を特徴とする液状表面処理組成物。
IPC (4):
C11D 7/06
, C11D 3/60
, H01L 21/304 341
, H01L 21/308
FI (4):
C11D 7/06
, C11D 3/60
, H01L 21/304 341 L
, H01L 21/308 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
半導体ウェーハ処理液
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-103191
Applicant:株式会社東芝
-
特開昭56-149499
-
ビスキノリノール誘導体及びビスベンゾキノリノール誘導体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-283083
Applicant:工業技術院長
Return to Previous Page