カーボンの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：野口繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999159353
Publication number (International publication number)：2000344506
Application date： Jun. 07, 1999
Publication date： Dec. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】低温、常圧かつ低コストでナノパーティクルやナノカプセルを製造する。【解決手段】ゾル-ゲル法により調製してシリカに坦持させた粒状のNi/SiO2(Niが50wt%)を触媒3として反応管1に充填し、電気炉7により触媒3を700°Cに加熱し、混合比が水素:二酸化炭素=2:1の混合ガスを反応管1内に流す。混合ガス中の二酸化炭素は触媒3に接触することにより接触水素還元され、触媒3から離れた位置にナノパーティクルが析出する。

Claim (excerpt)：

少なくとも二酸化炭素及び水素を含む混合ガスを450〜750°Cの反応温度にて遷移金属触媒に接触させ、二酸化炭素を接触水素還元することにより、ナノパーティクルを析出させることを特徴とするカーボンの製造方法。

IPC (4)：

C01B 31/02 101 , H01M 4/58 , A61K 31/00 635 , A61K 33/24

FI (4)：

C01B 31/02 101 F , H01M 4/58 , A61K 31/00 635 , A61K 33/24

F-Term (17)：

4C086AA01 , 4C086HA06 , 4C086MA37 , 4C086NA20 , 4C086ZB26 , 4G046CA01 , 4G046CB02 , 4G046CB09 , 4G046CC01 , 4G046CC08 , 5H003AA08 , 5H003BA01 , 5H003BA07 , 5H003BB01 , 5H003BC01 , 5H003BD00 , 5H003BD01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

カーボンの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-242786 Applicant：株式会社島津製作所, 財団法人地球環境産業技術研究機構
グラファイト状炭素の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-233063 Applicant：株式会社島津製作所, 財団法人地球環境産業技術研究機構
カーボンナノチューブデバイスおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-305512 Applicant：キヤノン株式会社

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Cited by examiner (2)

カーボンの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-242786 Applicant：株式会社島津製作所, 財団法人地球環境産業技術研究機構
グラファイト状炭素の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-233063 Applicant：株式会社島津製作所, 財団法人地球環境産業技術研究機構

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