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J-GLOBAL ID：200903083946656850

ネジキャップおよび処理装置

Inventor： 小美野 光明
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993276934
Publication number (International publication number)：1995127625
Application date： Nov. 05, 1993
Publication date： May. 16, 1995
Summary：

【要約】【目的】 温度制御に悪影響を与えることなく固定用のネジ等を所望位置に配置可能とすることができ、従来に較べて装置設計における自由度を増大させて、装置の小形化およびメンテナンス性の向上等を図ることのできるネジキャップおよび処理装置を提供する。【構成】 ボルト10のネジ頭11が挿入されたサセプタ12の凹部の内側壁面15には、ネジが形成されており、ネジキャップ1は、ここに螺合され、ボルト10のネジ頭11を覆う如く配設されている。ネジキャップ1の底面に形成されたテーパ部4は、サセプタ12の凹部底面に密着するよう構成されている。

Claim (excerpt)：

所定温度に温度制御される部材を係止するためのネジの頭部を覆う如く配設されるネジキャップであって、前記部材と同等あるいはそれ以上の熱伝導度を有する材料から略円柱状に形成され、周囲に前記ネジの頭部が挿入される前記部材の凹部内側壁に螺合されるネジ部を有し、底部の少なくとも一部がテーパ状に形成されていることを特徴とするネジキャップ。

IPC (3)：

F16B 37/14 ,  H01L 21/68 ,  H01L 21/3065

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-090404   Applicant：東京エレクトロン山梨株式会社
• スパッタ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-022580   Applicant：株式会社東芝, 日本真空技術株式会社