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J-GLOBAL ID：200903084124821708

酸解離性基を有する狭分散性重合体及びその製造方法

Inventor： 山本 喜博 ,  高尾 俊郎 ,  福田 立子 ,  池田 圭一 ,  須永 忠弘 ,  川原 信夫 ,  大北 益瑞 ,  一木 康夫
Applicant, Patent owner： 三井化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997343155
Publication number (International publication number)：1999171982
Application date： Dec. 12, 1997
Publication date： Jun. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 レジスト材として用いられるのに必要な諸物性を満足し、しかも狭い分子量分布を有する新規な酸解離性基を有する重合体を提供し、かつその製造方法を提供する。【解決手段】 構造単位として酸解離性基を有し、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比(Mw/Mn)が1.0〜2.0であり、かつGPCで測定したポリスチレン換算の数平均分子量が500〜100,000であることを特徴とする重合体であり、環状オレフィン系単量体をリビング開環メタセシス触媒で重合し、水素添加触媒の下に水素添加した後、酸無水物基の少なくとも一部を加水分解し、更にビニルエーテル類またはα,β-不飽和ケトン類と反応させることによって製造する。

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】(式中、R1は酸により解離する基であり、R2〜R3はそれぞれ水素、炭素数1〜20のアルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキルまたはニトリルから選ばれ、mは0または1〜3の整数を表す。)で表される構造単位を有し、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比(Mw/Mn)が1.0〜2.0であり、かつGPCで測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が500〜100,000であることを特徴とする酸解離性基を有する狭分散性重合体。

IPC (2)：

C08G 61/08 ,  G03F 7/039 601

FI (2)：

C08G 61/08 ,  G03F 7/039 601

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 酸不安定性ペンダント基を有する多環式ポリマーからなるフォトレジスト組成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-512109   Applicant：ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー
• 開環メタセシス(共)重合体の水素添加物及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-295823   Applicant：三井化学株式会社