酸不安定性ペンダント基を有する多環式ポリマーからなるフォトレジスト組成物

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000512109
Publication number (International publication number)：2001516804
Application date： Sep. 03, 1998
Publication date： Oct. 02, 2001
Summary：

【要約】本発明は、光酸開始剤と、酸不安定性ペンダント基を含有する繰返し単位からなる多環式ポリマーとからなる感放射線性フォトレジスト組成物に関する。結像性放射線源に露光すると、光酸開始剤が酸を発生させ、この酸が酸不安定性ペンダント基を切断し、ポリマー中に極性変化を生じさせる。このポリマーは、結像性放射線源に露光された部分が水性塩基に可溶性となる。

Claim (excerpt)：

光酸開始剤、任意の溶解抑制剤、および少なくとも二種類の多環式繰返し単位からなりそして該繰り返し単位の1つが酸不安定性ペンダント基を有し、もう一方がペンダント極性官能基を有するコポリマーからなるフォトレジスト組成物であり、ここで該極性官能基を有する繰返し単位が以下構造:【化1】ここでR5からR8はそれぞれ独立に、水素、直鎖状および分鎖状(C1〜C10)アルキル、および-(A)n-C(O)OR’’基、-(A)n-OR’’基、-(A)n-OC(O)R’’基、-(A)n-OC(O)OR’’基、-(A)n-C(O)R’’基、-(A)n-OC(O)C(O)OR’’基、-(A)n-O-A’-C(O)OR’’基、-(A)n-OC(O)-A’-C(O)OR’’基、-(A)n-C(O)O-A’-C(O)OR’’基、-(A)n-C(O)-A’-OR’’基、-(A)n-C(O)O-A’-OC(O)OR’’基、-(A)n-C(O)O-A’-O-A’-C(O)OR’’基、-(A)n-C(O)O-A’-OC(O)C(O)OR’’基、-(A)n-C(R’’)2CH(R’’)(C(O)OR’’)基、および-(A)n-C(R’’)2CH(C(O)OR’’)2基から選択される極性置換基よりなる群から選択される置換基を表し、ここでnは0または1であり、pは0から5の間の整数であり、-A-および-A’-はそれぞれ直鎖状および分鎖状(C1〜C10)アルキレン、(C2〜C10)アルキレンエーテル、ポリエーテル、環式エーテル、環式ジエーテルまたは下記式によって表される環式基:【化2】ここでaは2から7の間の整数であり、そしてR’’は水素、直鎖状および分鎖状(C1〜C10)アルキル、直鎖状および分鎖状(C1〜C10)アルコキシアルキレン、ポリエーテル、単環式および多環式(C4〜C20)脂環式部分、環式エーテル、環式ジエーテル、環式ケトン、および環式エステル(ラクトン)よりなる群から選択される二価のラジカルを表し、ただしR’’がアルキル、ラクトン、脂環式または環式ケトンであるとき、-A-基は存在しなければならずそしてアルキレンラジカルを表すことはできないものとする、によって表されるモノマーから重合される、ことを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (4)：

C08F 32/00 , C08F 2/46 , C08G 61/08 , G03F 7/039 601

FI (4)：

C08F 32/00 , C08F 2/46 , C08G 61/08 , G03F 7/039 601

F-Term (60)：

2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025AD07 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 4J011QA03 , 4J011QA34 , 4J011RA10 , 4J011RA11 , 4J011SA84 , 4J011SA87 , 4J011TA07 , 4J011UA01 , 4J011UA04 , 4J011WA01 , 4J032CA34 , 4J032CA43 , 4J032CA45 , 4J032CC03 , 4J032CD02 , 4J032CD08 , 4J100AK32Q , 4J100AK32R , 4J100AR09P , 4J100AR09Q , 4J100BA04P , 4J100BA04Q , 4J100BA10P , 4J100BA10Q , 4J100BA12P , 4J100BA12Q , 4J100BA16P , 4J100BA16Q , 4J100BA20P , 4J100BA20Q , 4J100BA22P , 4J100BA22Q , 4J100BC03P , 4J100BC03Q , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100BC58P , 4J100BC58Q , 4J100CA01 , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

感光膜共重合体、感光膜共重合体の製造方法、感光膜、半導体装置の製造方法及び半導体装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-002535 Applicant：現代電子産業株式会社
感光膜共重合体、感光膜共重合体の製造方法、感光膜、感光膜の製造方法、単量体の合成方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-368957 Applicant：現代電子産業株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-074718 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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