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J-GLOBAL ID:200903084138042299

計測装置及び計測方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 大渕 美千栄 ,  布施 行夫 ,  都築 美奈
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007258145
Publication number (International publication number):2009085853
Application date: Oct. 01, 2007
Publication date: Apr. 23, 2009
Summary:
【課題】分析対象光の偏光状態を、波長毎に位相子を取り替えることなく、かつ受光部での分光に際し入射光の偏光方位による偏光特性の影響を受けることなく、高精度に分析することが可能な計測装置及び計測方法を提供する。【解決手段】リターダ22及び検光子24を含む変調部20と、変調光を分光する分光部14aと受光部14bから構成され、光強度情報取得部はリターダ及び検光子の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第Nの主軸方位条件に設定された変調部で分析対象光を変調させることによって得られる第1〜第Nの変調光の光強度情報を取得する。演算処理部は、前記分光部を光の吸収軸に対する透過軸の光強度比が所与の値をもつ部分偏光子とみなし、前記部分偏光子の入射偏光方位に関連付けた光強度比、前記第1〜第Nの変調光の光強度の理論式と、前記第1〜第Nの変調光の光強度情報とに基づいて、前記偏光特性要素を算出する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
分析の対象である分析対象光の偏光状態を計測する計測装置であって、 回転可能に構成されたリターダ及び検光子を含む、前記分析対象光を変調させる変調部と、 前記変調部で前記分析対象光を変調させることによって得られる変調光を分光する分光部と、前記分光部で分光された前記変調光を受光する受光部とを含む分光受光手段と、 前記分光受光手段の受光部で受光された前記変調光の光強度情報を取得する光強度情報取得部と、 前記変調光の光強度情報に基づいて前記分析対象光の偏光特性要素を算出する演算処理を行う演算処理部と、 を含み、 前記変調部は、 前記分析対象光が、前記リターダを透過し、その後、前記検光子を透過するように構成されてなり、 前記光強度情報取得部は、 前記リターダの主軸方位と前記検光子の主軸方位とが所与の関係を満たし、かつ、前記リターダ及び前記検光子の主軸方位の少なくとも一方が異なる第1〜第N(Nは2以上の整数)の主軸方位条件に設定された前記変調部で前記分析対象光を変調させることによって得られる、第1〜第Nの変調光の光強度情報を取得し、 前記演算処理部は、 前記分光部を光の吸収軸に対する透過軸の光強度比が所与の値をもつ部分偏光子とみなし、前記部分偏光子の入射偏光方位に関連付けた光強度比、前記分析対象光の偏光特性要素及び前記変調部の主軸方位条件を反映した前記第1〜第Nの変調光の光強度の理論式と、前記第1〜第Nの変調光の光強度情報とに基づいて、前記偏光特性要素を算出する処理を行う計測装置。
IPC (2):
G01N 21/21 ,  G01N 21/23
FI (2):
G01N21/21 Z ,  G01N21/23
F-Term (15):
2G059AA02 ,  2G059BB10 ,  2G059BB15 ,  2G059EE01 ,  2G059EE05 ,  2G059EE11 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059HH02 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ06 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)

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