Pat

J-GLOBAL ID：200903084387574438

レーザ照射方法およびレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法

Inventor： 田中 幸一郎 ,  宮入 秀和 ,  志賀 愛子 ,  下村 明久 ,  磯部 敦生
Applicant, Patent owner： 株式会社半導体エネルギー研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002256189
Publication number (International publication number)：2003257885
Application date： Aug. 30, 2002
Publication date： Sep. 12, 2003
Summary：

【要約】【課題】 線状ビームを形成するための光学系は複雑なものになっている。このような光学系に対して光学調整を行うのは非常に困難である上、フットプリントが大きくなるため、装置が大型化するという問題がある。さらに、被照射体に対する反射率が高いレーザ光を用いると、前記レーザ光が被照射体に垂直に入射した場合には戻り光が発生し、レーザの出力や周波数の変動や、ロッドの破壊などの悪影響を及ぼす要因となる。【解決手段】本発明は、レーザ光を凸レンズに対して斜めに入射することで、非点収差などの収差を生じさせ、照射面またはその近傍におけるレーザ光の形状を線状とすることを特徴とする。本発明は、非常に簡易な構成であるため、光学調整が容易であり、コンパクトな装置となる。さらに、被照射体に対して斜めに入射するため、戻り光を防止することができる。

Claim (excerpt)：

レーザと、凸レンズとを有するレーザ照射装置であって、前記凸レンズは前記レーザから射出されるレーザ光に対して斜めに設置されることを特徴とするレーザ照射装置。

IPC (6)：

H01L 21/268 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/265 602 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  H01S 3/00

FI (5)：

H01L 21/268 J ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/265 602 C ,  H01S 3/00 A ,  H01L 29/78 627 G

F-Term (102)：

5F052AA02 ,  5F052AA17 ,  5F052AA24 ,  5F052BA02 ,  5F052BA07 ,  5F052BA11 ,  5F052BA14 ,  5F052BB01 ,  5F052BB02 ,  5F052BB03 ,  5F052BB04 ,  5F052BB05 ,  5F052BB06 ,  5F052BB07 ,  5F052DA02 ,  5F052DA03 ,  5F052DB02 ,  5F052DB03 ,  5F052DB07 ,  5F052EA12 ,  5F052FA06 ,  5F052FA19 ,  5F052JA01 ,  5F052JA04 ,  5F072AA02 ,  5F072AA03 ,  5F072AA05 ,  5F072AB01 ,  5F072AB05 ,  5F072AB20 ,  5F072KK30 ,  5F072MM08 ,  5F072MM09 ,  5F072YY08 ,  5F110AA30 ,  5F110BB02 ,  5F110BB04 ,  5F110CC02 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110DD14 ,  5F110DD15 ,  5F110DD17 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE06 ,  5F110EE09 ,  5F110EE14 ,  5F110EE23 ,  5F110EE28 ,  5F110EE44 ,  5F110EE45 ,  5F110FF04 ,  5F110FF28 ,  5F110FF30 ,  5F110FF36 ,  5F110GG01 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG24 ,  5F110GG25 ,  5F110GG32 ,  5F110GG43 ,  5F110GG45 ,  5F110GG47 ,  5F110HJ01 ,  5F110HJ04 ,  5F110HJ12 ,  5F110HJ13 ,  5F110HJ23 ,  5F110HL01 ,  5F110HL02 ,  5F110HL03 ,  5F110HL04 ,  5F110HL06 ,  5F110HL11 ,  5F110HM15 ,  5F110NN03 ,  5F110NN22 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN34 ,  5F110NN35 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110PP03 ,  5F110PP05 ,  5F110PP06 ,  5F110PP07 ,  5F110PP10 ,  5F110PP29 ,  5F110PP34 ,  5F110QQ11 ,  5F110QQ19 ,  5F110QQ23 ,  5F110QQ24 ,  5F110QQ25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-173707
  
• レーザ光照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-073817   Applicant：株式会社日本製鋼所
• レーザ照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-063390   Applicant：セイコー電子工業株式会社, 興和株式会社