Pat
J-GLOBAL ID：200903084541247550

基板処理装置

Inventor：
西村 讓一

About 西村 讓一

, 
大谷 正美

About 大谷 正美


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 福島 祥人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998045950
Publication number (International publication number)：1999244760
Application date： Feb. 26, 1998
Publication date： Sep. 14, 1999
Summary：
【要約】【課題】 基板上に均一に処理液を供給することができる基板処理装置を提供することである。【解決手段】 現像液吐出ノズル11のノズル本体部16は、平面状の前方側底面17aおよび平面状の後方側底面17bからなる段差状の底面17を有する。ノズル本体部16の前方側底面17aと基板との間隔は後方側底面17bと基板との間隔よりも小さい。ノズル本体部16は親水性材料により形成され、ノズル本体部16の前方側底面17aおよび前方側の外壁面18は撥水性材料層20でコーティングされている。現像処理時に基板を基板保持部により静止状態で保持する。現像液吐出ノズル11を基板外の一方側の位置から基板上を通過して基板外の他方側の位置へ直線状に移動させつつ現像液を基板上に供給する。
Claim (excerpt)：
基板を保持する基板保持手段と、処理液を吐出する吐出口を有する処理液吐出ノズルと、前記基板保持手段に保持された基板上に前記処理液吐出ノズルの前記吐出口から処理液が供給されるように前記処理液吐出ノズルを前記基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、前記処理液吐出ノズルの移動方向において前記処理液吐出ノズルの前記吐出口よりも前方側の下端と前記基板との間隔が前記吐出口よりも後方側の下端と前記基板との間隔に比べて小さくなるように前記処理液吐出ノズルの底面に段差が設けられたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (5)：
B05C 5/02 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027
FI (6)：
B05C 5/02 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • 塗布装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-122612   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 塗布装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-151163   Applicant：ソニー株式会社
  • 塗布装置及び塗布方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-221564   Applicant：コニカ株式会社
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM