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J-GLOBAL ID:200903085081558257
ホトマスクに対する位相シフタ配置方法及び記憶媒体
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 忠彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996308459
Publication number (International publication number):1997251204
Application date: Nov. 19, 1996
Publication date: Sep. 22, 1997
Summary:
【要約】【課題】 本発明はホトマスクに対する位相シフタ配置方法及び記憶媒体に関し、コンピュータを用いて位相シフタの好ましい配置を自動的に求めることを目的とする。【解決手段】 開口パターンをノードとし、隣合う開口パターンの間隔が設定値以下の開口パターンの間をブランチとする。ノードのブランチによる繋がりをネットとして抽出し、このネットを、閉ループが存在しない独立な開ネットと、開ネット以外の独立な閉ネットとに分割する。各閉ネットについて、1通りの位相シフタの配置に対応したツリーを作成し、これを遺伝的アルゴリズムにおける染色体とし、隣合うノードの位相差が0である矛盾ブランチの総数又は矛盾ブランチに重みを付けたものの総和が少なくなるように進化させる。
Claim (excerpt):
ホトマスクの隣接する開口パターンを通った光の位相差をπラジアンにするために位相シフタを選択的に配置する方法において、該開口パターンをノードとし、隣合う該開口パターンの間隔が設定値以下の該開口パターンの間をブランチとし、該ノードの該ブランチによる繋がりをネットとして抽出する第1ステップと、該ネットを、閉ループが存在しない独立な開ネットと、開ネット以外の独立な閉ネットとに分割する第2ステップと、互いに独立な該閉ネットの各々について、該位相シフタを選択的に配置する第3ステップと、を有するホトマスクに対する位相シフタ配置方法。
IPC (2):
FI (3):
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
フォトマスク設計方法及び設計装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-159318
Applicant:株式会社東芝
-
位相シフタ配置方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-152310
Applicant:松下電器産業株式会社
Cited by examiner (2)
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フォトマスク設計方法及び設計装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-159318
Applicant:株式会社東芝
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位相シフタ配置方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-152310
Applicant:松下電器産業株式会社
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