レジスト塗布組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993197813
Publication number (International publication number)：1995036189
Application date： Jul. 15, 1993
Publication date： Feb. 07, 1995
Summary：

【要約】【構成】放射線照射により酸を発生させ、その酸の触媒作用による化学変化によって、放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するポジ型レジスト塗布組成物において、溶剤がプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートであることを特徴とするポジ型レジスト塗布組成物。【効果】本発明のポジ型レジスト塗布組成物は、微細加工を安定的に行うことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト塗布組成物として好適である。また、本発明のポジ型レジスト塗布組成物はi線などの紫外線、エキシマレーザーなどの遠紫外線、シンクロトロン放射線などのX線、電子線などの荷電粒子線といった、放射線のいずれにも対応でき、今後さらに微細化が進行すると予想される半導体デバイス製造用の化学増幅型ポジ型レジストとして有用に使用できる。

Claim (excerpt)：

放射線照射により酸を発生させ、その酸の触媒作用による化学変化によって、放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するポジ型レジスト塗布組成物において、溶剤がプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートであることを特徴とするポジ型レジスト塗布組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開昭62-038448
特開平3-100551
特開平2-019747

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