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J-GLOBAL ID：200903085291952454

レーザー光のコントラスト向上法及びレーザー発生装置

Inventor： 桐山 博光 ,  山川 考一
Applicant, Patent owner： 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005042974
Publication number (International publication number)：2006229079
Application date： Feb. 18, 2005
Publication date： Aug. 31, 2006
Summary：

【課題】 レーザー光のコントラストを小型の装置構成で、簡便にかつ安価に向上させる方法及びレーザー発生装置を提供する。【解決手段】 レーザー発振器11のパルス光出力を、パルス幅拡張器12、前段部増幅器13、減衰器14を経て、光パラメトリック増幅器15に導入し、その後光パラメトリック増幅器15の出力を後段部増幅器16、パルス幅圧縮器17を経て取り出す。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

レーザー増幅器から出力されるレーザー光を減光し、光パラメトリック増幅器で増幅することにより、レーザー光の時間波形に存在するプリパルスとメインパルスの強度比(コントラスト)を増大させたレーザー光を得ることを特徴とするレーザー光のコントラスト向上法。

IPC (3)：

H01S 3/10 ,  H01S 3/108 ,  H01S 3/23

FI (3)：

H01S3/10 Z ,  H01S3/108 ,  H01S3/23

F-Term (7)：

5F172AE06 ,  5F172AF07 ,  5F172DD03 ,  5F172NN14 ,  5F172NN16 ,  5F172NR24 ,  5F172NR30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 短光パルスの増幅装置および発生装置、非線形群速度分散ミスマッチの補正方法、ストレッチされた超短パルスの増幅装置、光学増幅装置およびその運転方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-103768   Applicant：イムラアメリカインコーポレイテッド
• チャープパルス圧縮装置およびチャープパルス増幅装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-114804   Applicant：イムラアメリカインコーポレイテッド
• 光パルス増幅装置、チャープパルス増幅装置およびパラメトリック・チャープパルス増幅装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-068892   Applicant：イムラアメリカインコーポレイテッド
• 擬位相整合パラメトリックチャ-プパルス増幅システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-203268   Applicant：イムラアメリカインコーポレイテッド

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• The prospects for ultrashort pulse duration and ultrahigh intensity using optical parametric chirped
• Few-optical-cycle laser pulses by OPA:broadband chirped mirror compression and SPIDER characterizati
• Ultrafast optical parametric amplifiers