低放射ガラスの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997175389
Publication number (International publication number)：1999020081
Application date： Jul. 01, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】格段に優れた耐久性(特に、耐湿性)被膜を有し、該被膜に斑点等の欠陥が発生しない、長期的に優れた低放射性能を維持する低放射ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】ガラス表面に誘電体層、金属層、誘電体層の少なくとも3層からなる薄膜を形成するに、金属層を形成する時の成膜室中の水蒸気分圧を2×10-5mbar以下に保持した状態で成膜する方法。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に、少なくとも第1層として誘電体層、第2層として金属層、第3層として誘電体層からなる薄膜を順次形成する真空成膜方法において、金属層を形成する時の成膜室内の雰囲気中の水蒸気分圧を2×10-5mbar以下に保持することを特徴とする低放射ガラスの製造方法。

IPC (8)：

B32B 17/06 , B32B 7/02 104 , B32B 9/00 , B32B 15/04 , C03C 4/08 , C03C 17/36 , C23C 14/18 , C23C 14/34

FI (8)：

B32B 17/06 , B32B 7/02 104 , B32B 9/00 A , B32B 15/04 B , C03C 4/08 , C03C 17/36 , C23C 14/18 , C23C 14/34 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平1-188446
連続真空シール装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-181803 Applicant：花王株式会社
Zn-Mg合金めっき鋼板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-347739 Applicant：日新製鋼株式会社

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