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J-GLOBAL ID：200903085342649182

シリカ系微粒子の製造方法および該シリカ系微粒子を含む被膜付基材

Inventor：
熊沢 光章

About 熊沢 光章

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村口 良

About 村口 良

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平井 俊晴

About 平井 俊晴


Applicant, Patent owner：
触媒化成工業株式会社

About 触媒化成工業株式会社


Agent (1)： 石田 政久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002375660
Publication number (International publication number)：2004203683
Application date： Dec. 25, 2002
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：
【課題】低屈折率のシリカ系微粒子を得るために、外殻内部に空洞を有する中空で球状のシリカ系微粒子とする。【解決手段】珪酸塩の水溶液および/または酸性珪酸液と、アルカリ可溶の無機化合物水溶液とをアルカリ水溶液中に同時に添加して複合酸化物微粒子分散液を調製する際に、電解質塩を電解質塩のモル数(ME)とSiO2 のモル数(MS)との比(ME)/(MS)が0.1〜10の範囲となるように添加した上で粒子成長させ、次いで、前記複合酸化物微粒子分散液に、必要に応じてさらに電解質塩を加えた後、酸を加えて前記複合酸化物微粒子を構成する珪素以外の元素の少なくとも一部を除去することによりシリカ系微粒子を製造する。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
下記工程(a)および工程(b)からなるシリカ系微粒子の製造方法。 (a)珪酸塩の水溶液および/または酸性珪酸液と、アルカリ可溶の無機化合物水溶液とをアルカリ水溶液中に、または、必要に応じて種粒子が分散したアルカリ水溶液中に同時に添加して、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機酸化物をMOXで表したときのモル比MOX/SiO2 が0.3〜1.0の範囲にある複合酸化物微粒子分散液を調製する際に、複合酸化物微粒子の平均粒子径が5〜50nmになった時点で電解質塩を電解質塩のモル数(ME)とSiO2 のモル数(MS)との比(ME)/(MS)が0.1〜10の範囲で添加する工程 (b)前記複合酸化物微粒子分散液に、必要に応じてさらに電解質塩を加えた後、酸を加えて前記複合酸化物微粒子を構成する珪素以外の元素の少なくとも一部を除去する工程
IPC (3)：
C01B33/193 ,  C01B33/143 ,  C01B33/18
FI (3)：
C01B33/193 ,  C01B33/143 ,  C01B33/18 C
F-Term (20)：
4G072AA41 ,  4G072BB05 ,  4G072BB07 ,  4G072BB16 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH24 ,  4G072HH28 ,  4G072HH29 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ13 ,  4G072KK05 ,  4G072LL01 ,  4G072QQ09 ,  4G072RR12 ,  4G072SS07 ,  4G072SS14 ,  4G072TT01 ,  4G072TT02 ,  4G072UU07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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